[发明专利]气体处理系统及化学气相沉积设备

摘要

本发明提供一种气体处理系统及化学气相沉积设备，属于微电子技术领域，其可解决现有的气体处理系统的能源浪费的问题。本发明的气体处理系统，其包括：用于从反应腔室中抽取气体的抽气装置、用于对从反应腔室中抽取的气体进行处理的气体处理装置，所述气体处理系统还包括：气体监测装置，所述反应腔室与抽气装置，抽气装置与气体处理装置均通过第一管道连接；所述气体监测装置与第一管道气路连接，用于将气体电离，并俘获电离产生的离子而产生电流；所述气体监测装置与气体处理装置电连接，用于控制气体处理装置工作。本发明的气体处理系统可用于化学气相沉积设备，干法刻蚀工艺设备等基板处理工艺的设备中。

主权项

一种气体处理系统，其包括：用于从反应腔室中抽取气体的抽气装置、用于对从反应腔室中抽取的气体进行处理的气体处理装置，其特征在于，所述气体处理系统还包括：气体监测装置，其中， 所述反应腔室、抽气装置、气体处理装置间通过第一管道连接； 所述气体监测装置与第一管道气路连接，用于将气体电离，并俘获电离产生的离子而产生电流； 所述气体监测装置与气体处理装置电连接，用于控制气体处理装置工作。