[发明专利]用于制造用于MEMS构件的罩的方法和具有这样的罩的混合集成部件

摘要

本发明提出一种用于罩的制造方法，通过所述方法在具有MEMS构件的垂直混合集成部件的框架中不仅可以实现具有低空穴内压的相对较大的空穴容积而且可以实现MEMS构件的微机械结构的可靠过载保护。按照本发明，在多级的各向异性的刻蚀工艺中在面状的罩衬底中产生罩结构，所述罩结构包括至少一个装配框和罩内侧上的至少一个止挡结构，所述至少一个装配框具有至少一个装配面，所述至少一个止挡结构具有至少一个止挡面，其中，对于多级的各向异性的刻蚀工艺以至少两个由不同材料构成的掩蔽层掩蔽罩衬底的表面；其中，如此选择至少两个掩蔽层的布局和刻蚀步骤的数量和持续时间，使得装配面、止挡面和罩内侧位于罩结构的不同的面水平上。

主权项

1.一种用于制造用于MEMS构件的罩(100、200)的方法，所述MEMS构件具有至少一个能够垂直于构件平面偏移的结构元件，其中，在多级的各向异性的刻蚀工艺中，在面状的罩衬底(10)中产生罩结构，所述罩结构包括至少一个装配框(15)和罩内侧上的至少一个止挡结构(16)，所述至少一个装配框具有至少一个装配面(11)，所述至少一个止挡结构具有至少一个止挡面(161)，其中，对于所述多级的各向异性的刻蚀工艺，以至少两个由不同材料构成的掩蔽层(12、13)掩蔽所述罩衬底(10)的表面；其中，如此选择所述至少两个掩蔽层(12、13)的布局和所述刻蚀步骤的数量和持续时间，使得所述至少一个止挡结构被减薄到限定的高度上并且所述装配面(11)、所述止挡面(161)和所述罩内侧位于所述罩结构的不同的面水平上。