[发明专利]一种多孔氧化硅及其制备工艺方法有效
| 申请号： | 201310503563.8 | 申请日： | 2013-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN104556065A | 公开（公告）日： | 2015-04-29 |
| 发明（设计）人： | 范峰;凌凤香;王少军;张会成;陈晓刚;杨春雁 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司抚顺石油化工研究院 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100728 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种多孔氧化硅及其制备方法，所述氧化硅组成为无定形二氧化硅，颗粒大小为50～100μm，颗粒由20～60nm的二氧化硅初级粒子组成，比表面积为50～200m2/g，具有集中分布的介孔，孔径分布在17～22nm呈集中分布。所述多孔氧化硅的制备方法，包括以下步骤：（1）将硅溶胶与蒸馏水混合，然后搅拌均匀；（2）在搅拌条件下，将无机碱加入到步骤（1）得到混合物中，调节体系PH为10～14，然后加入蔗糖搅拌均匀，对混合物进行干燥处理；（3）步骤（2）所得混合物进行焙烧、洗涤和干燥处理后即为多孔氧化硅。本发明方法不使用昂贵的有机模板剂，仅使用廉价无毒的蔗糖作为添加剂，操作步骤简单易行，生成成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多孔 氧化 及其 制备 工艺 方法 | ||
【主权项】：
一种多孔氧化硅，具有如下特征：组成为无定形二氧化硅，颗粒大小为50～100μm，颗粒由20～60nm的二氧化硅初级粒子组成，比表面积为50～200m2/g，具有集中分布的介孔，孔径分布在17～22nm呈集中分布，其中，17～22nm孔道的比表面积占总的比表面积的95%以上。
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