[发明专利]利用压差在微通道板侧壁沉积薄膜的装置和使用方法有效
申请号: | 201310485699.0 | 申请日: | 2013-10-16 |
公开(公告)号: | CN103572271A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 朱一平;王连卫 | 申请(专利权)人: | 华东师范大学 |
主分类号: | C23C20/00 | 分类号: | C23C20/00 |
代理公司: | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人: | 吴泽群 |
地址: | 200062 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种利用压差在微通道板侧壁沉积薄膜的装置和使用方法。它包括正压腔和负压腔,所述的正压腔和负压腔之间为连通通道,正压腔和负压腔上分别设有进气口和出气口;连通通道的中间位置设置有固定微通道板的卡托;所述的正压腔和负压腔内注有溶胶液体。本发明利用微通道板两侧的压强差,实现所需沉积薄膜材料的溶胶液体在微通道内的流动,然后对粘附在微通道侧壁上的溶胶进行高温处理,从而实现薄膜在微通道板侧壁上的沉积。单层沉积的薄膜厚度,取决于溶胶浓度和微通道板两侧的压强差。本发明解决了使所需沉积薄膜材料的溶胶液体在狭小尺寸的微通道内实现定向流动的难题,进而实现了其薄膜材料在微通道板侧壁上的沉积。 | ||
搜索关键词: | 利用 通道 侧壁 沉积 薄膜 装置 使用方法 | ||
【主权项】:
一种利用压差在微通道板侧壁沉积薄膜的装置,其特征在于:包括正压腔和负压腔,所述的正压腔和负压腔之间为连通通道,正压腔和负压腔上分别设有进气口和出气口;连通通道的中间位置设置有固定微通道板的卡托;所述的正压腔和负压腔内注有溶胶液体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东师范大学,未经华东师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310485699.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于搜索结果排序的方法与设备
- 下一篇:一种系统测试的方法和装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C20-00 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C20-02 .镀金属材料
C23C20-06 .镀金属材料以外的无机材料
C23C20-08 ..镀化合物、混合物或固溶体,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..镀金属
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C20-00 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C20-02 .镀金属材料
C23C20-06 .镀金属材料以外的无机材料
C23C20-08 ..镀化合物、混合物或固溶体,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..镀金属