[发明专利]一种多层封装基板缺陷的X射线检测方法及系统有效
申请号: | 201310476277.7 | 申请日: | 2013-10-12 |
公开(公告)号: | CN103543168A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 高红霞;陈科伟;李致富;胡跃明 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 蔡茂略 |
地址: | 511458 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种多层封装基板缺陷的X射线检测方法及系统,方法包括下述步骤:(1)投影数据的采集;(2)二维断层图像的重建;(3)三维图像的重建;(4)对得到的三维图像进行虚拟切割;(5)基于SURF特征将得到的二维切片X与相应的标准的切片图像进行配准;(6)根据变换矩阵H确认其在标准图像上是否有相应的匹配点;(7)对得到的二值图像进行开运算;(8)标注连通域;(9)缺陷位置的计算及缺陷灰度值信息的确定;(10)判断基板的缺陷机理。本发明通过X射线3D成像技术获取多层封装基板的断层图像,检测基板间通孔及互联的物理缺陷,并将各种物理缺陷数据通过专家系统评估,自动判断基板的缺陷机理,提高生产工艺可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 多层 封装 缺陷 射线 检测 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种多层封装基板缺陷的X射线检测方法,其特征在于,包括下述步骤:(1)投影数据的采集;(2)二维断层图像的重建;(3)三维图像的重建;(4)对得到的三维图像进行虚拟切割,得到检测所需的二维切片X;(5)基于SURF特征将得到的二维切片X与相应的标准的切片图像进行配准,得到变换矩阵H;(6)针对X的每一个像素点,根据变换矩阵H确认其在标准图像上是否有相应的匹配点,最终形成二值图X1,白色像素为缺陷区域,即表示图中该位置的像素点不能在标准图上找到匹配点,黑色像素点表示图中该位置的像素点能在标准图上找到匹配点;(7)形态学图像处理:对得到的二值图像进行开运算,消除孤立点,得到图像X2,再做闭运算,消除由于匹配误差而造成的缺陷区域的分裂形成图像X3;(8)Blob分析:标注连通域,计算缺陷的面积、周长、圆形度;(9)缺陷位置的计算及缺陷灰度值信息的确定;(10)专家系统评估:判断基板的缺陷机理。
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