[发明专利]一种多层封装基板缺陷的X射线检测方法及系统有效

专利信息
申请号: 201310476277.7 申请日: 2013-10-12
公开(公告)号: CN103543168A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 高红霞;陈科伟;李致富;胡跃明 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 蔡茂略
地址: 511458 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种多层封装基板缺陷的X射线检测方法及系统,方法包括下述步骤:(1)投影数据的采集;(2)二维断层图像的重建;(3)三维图像的重建;(4)对得到的三维图像进行虚拟切割;(5)基于SURF特征将得到的二维切片X与相应的标准的切片图像进行配准;(6)根据变换矩阵H确认其在标准图像上是否有相应的匹配点;(7)对得到的二值图像进行开运算;(8)标注连通域;(9)缺陷位置的计算及缺陷灰度值信息的确定;(10)判断基板的缺陷机理。本发明通过X射线3D成像技术获取多层封装基板的断层图像,检测基板间通孔及互联的物理缺陷,并将各种物理缺陷数据通过专家系统评估,自动判断基板的缺陷机理,提高生产工艺可靠性。
搜索关键词: 一种 多层 封装 缺陷 射线 检测 方法 系统
【主权项】:
一种多层封装基板缺陷的X射线检测方法,其特征在于,包括下述步骤:(1)投影数据的采集;(2)二维断层图像的重建;(3)三维图像的重建;(4)对得到的三维图像进行虚拟切割,得到检测所需的二维切片X;(5)基于SURF特征将得到的二维切片X与相应的标准的切片图像进行配准,得到变换矩阵H;(6)针对X的每一个像素点,根据变换矩阵H确认其在标准图像上是否有相应的匹配点,最终形成二值图X1,白色像素为缺陷区域,即表示图中该位置的像素点不能在标准图上找到匹配点,黑色像素点表示图中该位置的像素点能在标准图上找到匹配点;(7)形态学图像处理:对得到的二值图像进行开运算,消除孤立点,得到图像X2,再做闭运算,消除由于匹配误差而造成的缺陷区域的分裂形成图像X3;(8)Blob分析:标注连通域,计算缺陷的面积、周长、圆形度;(9)缺陷位置的计算及缺陷灰度值信息的确定;(10)专家系统评估:判断基板的缺陷机理。
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