[发明专利]薄膜掩模修正装置

摘要

本发明提供薄膜掩模修正装置，能够在曝光装置外容易且正确地修正、校正薄膜掩模与基板的局部偏差。该薄膜掩模修正装置具有基板台（1）、薄膜掩模基座（2）、摄像装置（3）、加压装置（4）以及薄膜掩模保持架（70）。薄膜掩模基座（2）具有透明的玻璃板（20）和升降装置（21），将玻璃板（20）重叠在基板（90）上，通过上升而将薄膜掩模（95）转移到薄膜掩模保持架（70）。摄像装置（3）重叠地拍摄基板（90）与薄膜掩模（95）以及基板产品图案（92）与掩模产品图案（97），观测基板（90）与薄膜掩模（95）的画面的差分。通过摩擦块（40）进行薄膜掩模（95）的修正，薄膜掩模保持架（70）接收修正后的薄膜掩模（95）并转移到下一个工序。

主权项

一种薄膜掩模修正装置，其特征在于，包括：基板台，其载置具有对位用的基板标记的基板；由透明体构成的薄膜掩模基座，其在所述基板台的上方载置具有对位用的掩模标记的薄膜掩模；摄像装置，其能够重叠地拍摄所述基板和所述薄膜掩模；对位装置，其通过所述摄像装置对所述基板标记和掩模标记进行拍摄，根据该拍摄到的基板标记和掩模标记进行基板与薄膜掩模的对位；加压装置，其根据由所述摄像装置拍摄到的基板和薄膜掩模，使薄膜掩模的期望位置发生变形；薄膜掩模固定装置，其以保持由该加压装置实现的薄膜掩模的变形的方式，将薄膜掩模固定到所述薄膜掩模基座；以及转移装置，其以保持所述薄膜掩模的变形的状态，将该薄膜掩模转移到薄膜掩模保持架上，该薄膜掩模保持架用于保持所述薄膜掩模并安装到曝光装置。