[发明专利]薄膜掩模修正装置

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜掩模（film mask）修正装置。

背景技术

光刻法已经在各种领域中得到广泛应用，而且近年来，印刷布线基板也在使用曝光装置进行制造，其中，所述光刻法是通过曝光装置在涂敷了光致抗蚀剂等感光材料的基板表面上感光烧印规定的图案，之后通过蚀刻工序在基板上形成图案。在该印刷布线基板的曝光装置中，作为描绘有图案原画的底版，多使用树脂薄膜掩模。

另一方面，对于以智能手机为代表的数字终端等，要求提高小型轻量化和高功能高性能化，与此相应地，安装电子部件的印刷布线板也在向多层化、薄板化发展，并且向布线的高密度高精度化发展。

因此，在使用了薄膜掩模的接触式曝光装置中，也要求比以往更高的对位精度。

然而，薄膜掩模制作时的描绘偏差、薄膜掩模自身的伸缩、薄膜掩模安装时的变形、重复进行接触式曝光所引起的伸缩和变形、或者基板自身的伸缩和变形等因素综合重叠在一起，经常会发生电路图案的一部分未对准基板的下层电路图案的问题，无法应对高对位精度的要求。

因此，为了解决这样的问题，如专利文献1、2所示，已经提出并使用了如下的印刷布线基板用的曝光装置：通过拉伸薄膜掩模外周部而使整个薄膜掩模弹性变形来进行对位，并在该状态下进行曝光。但是，关于这种印刷布线基板用的曝光装置，需要新的曝光装置或者大幅改进已有的曝光装置。另外，因为是使整个薄膜掩模变形的结构，因此存在无法完全应对薄膜掩模的一部分的变形的问题。

目前的现状是，使用了以往的薄膜掩模的接触式曝光装置的要求依然很高，且希望继续使用已有的曝光装置的要求也很高。

专利文献1：日本特许第3345178号

专利文献2：日本特许第3402681号

因此，目前的现状是：为了使用已有的曝光装置来实现高精度的对位，在实际的生产现场中，作业者记住基板与薄膜掩模的对位状态，暂时取出掩模保持架，进行错位部分的摩擦等作业而对薄膜掩模的一部分的变形进行修正、校正。

但是，在这种以往的修正、校正方法中，依赖于作业者的记忆和感觉的部分较多，此外还需要熟练性，而且在该作业中生产被中断，因此还产生了生产性降低的问题。

发明内容

本发明的目的在于解决如上所述的以往的问题，其目的在于，提供如下这样的薄膜掩模修正装置：能够在图像中确认薄膜掩模的电路图案与基板的电路图案之间的局部偏差的同时，容易、正确地且不降低生产性地在曝光装置外进行修正、校正。

为了达到上述目的，本发明的薄膜掩模修正装置的特征在于，包括：基板台，其载置具有对位用的基板标记的基板；由透明体构成的薄膜掩模基座，其在所述基板台的上方载置具有对位用的掩模标记的薄膜掩模；摄像装置，其能够重叠地拍摄所述基板和所述薄膜掩模；对位装置，其通过所述摄像装置对所述基板标记和掩模标记进行拍摄，根据该拍摄到的基板标记和掩模标记进行基板与薄膜掩模的对位；加压装置，其根据由所述摄像装置拍摄到的基板和薄膜掩模，使薄膜掩模的期望位置发生变形；薄膜掩模固定装置，其以保持由该加压装置实现的薄膜掩模的变形的方式，将薄膜掩模固定到所述薄膜掩模基座；以及转移装置，其以保持所述薄膜掩模的变形的状态，将该薄膜掩模转移到薄膜掩模保持架上，该薄膜掩模保持架用于保持所述薄膜掩模并安装到曝光装置。

所述薄膜掩模修正装置还可以具有移动装置，该移动装置以保持所述薄膜掩模的变形的状态，将设有转移来的所述薄膜掩模的薄膜掩模保持架移动到曝光装置。

另外优选为，所述薄膜掩模修正装置还具有基板台贴紧固定装置，该基板台贴紧固定装置将所述薄膜掩模基座贴紧固定于所述基板台，所述薄膜掩模修正装置在将该薄膜掩模基座贴紧固定于该基板台的状态下，通过所述加压装置使薄膜掩模的期望位置发生变形。

另外优选为，所述薄膜掩模修正装置还具有掩模保持架贴紧固定装置，该掩模保持架贴紧固定装置将所述薄膜掩模基座贴紧固定于所述薄膜掩模保持架，所述薄膜掩模修正装置在将该薄膜掩模基座贴紧固定于该薄膜掩模保持架的状态下，通过所述转移装置转移薄膜掩模。

所述摄像装置优选使用远心透镜。另外所述加压装置优选具有摩擦块（rubbing block）。

根据本发明的薄膜掩模修正装置，具有如下效果等：不依赖于作业者的记忆和感觉而能够进行容易且正确的对位。另外，由于是在曝光装置外进行修正作业，因此不用停止曝光装置，生产性提高。另外，装置便宜，能够继续使用以往的接触式曝光装置。

附图说明

图1是示出本发明的一个实施方式的概略主视图。