[发明专利]薄膜掩模修正装置无效
申请号: | 201310435048.0 | 申请日: | 2013-09-23 |
公开(公告)号: | CN103792801A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 阿部和芳;杉田健一 | 申请(专利权)人: | 株式会社阿迪泰克工程 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 修正 装置 | ||
1.一种薄膜掩模修正装置,其特征在于,包括:
基板台,其载置具有对位用的基板标记的基板;
由透明体构成的薄膜掩模基座,其在所述基板台的上方载置具有对位用的掩模标记的薄膜掩模;
摄像装置,其能够重叠地拍摄所述基板和所述薄膜掩模;
对位装置,其通过所述摄像装置对所述基板标记和掩模标记进行拍摄,根据该拍摄到的基板标记和掩模标记进行基板与薄膜掩模的对位;
加压装置,其根据由所述摄像装置拍摄到的基板和薄膜掩模,使薄膜掩模的期望位置发生变形;
薄膜掩模固定装置,其以保持由该加压装置实现的薄膜掩模的变形的方式,将薄膜掩模固定到所述薄膜掩模基座;以及
转移装置,其以保持所述薄膜掩模的变形的状态,将该薄膜掩模转移到薄膜掩模保持架上,该薄膜掩模保持架用于保持所述薄膜掩模并安装到曝光装置。
2.根据权利要求1所述的薄膜掩模修正装置,其特征在于,
所述薄膜掩模修正装置还具有移动装置,该移动装置以保持所述薄膜掩模的变形的状态,将设有转移来的所述薄膜掩模的薄膜掩模保持架移动到曝光装置。
3.根据权利要求1或2所述的薄膜掩模修正装置,其特征在于,
所述薄膜掩模修正装置还具有基板台贴紧固定装置,该基板台贴紧固定装置将所述薄膜掩模基座贴紧固定于所述基板台,所述薄膜掩模修正装置在将该薄膜掩模基座贴紧固定于该基板台的状态下,通过所述加压装置使薄膜掩模的期望位置发生变形。
4.根据权利要求1~3中的任意一项所述的薄膜掩模修正装置,其特征在于,
所述薄膜掩模修正装置还具有掩模保持架贴紧固定装置,该掩模保持架贴紧固定装置将所述薄膜掩模基座贴紧固定于所述薄膜掩模保持架,所述薄膜掩模修正装置在将该薄膜掩模基座贴紧固定于该薄膜掩模保持架的状态下,通过所述转移装置转移薄膜掩模。
5.根据权利要求1~4中的任意一项所述的薄膜掩模修正装置,其特征在于,
所述摄像装置使用了远心透镜。
6.根据权利要求1~4中的任意一项所述的薄膜掩模修正装置,其特征在于,
所述加压装置具有摩擦块。
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