[发明专利]金属光栅的制备方法在审
| 申请号： | 201310429909.4 | 申请日： | 2013-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN104459855A | 公开（公告）日： | 2015-03-25 |
| 发明（设计）人： | 朱振东;李群庆;白本锋;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种金属光栅的制备方法，该制备方法包括以下步骤：提供一基底；设置一图形化的掩模层在所述基底的表面，该图形化的掩模层包括多个凹部，并使所述基底的部分表面通过所述多个凹部暴露出来；沉积一厚度大于10纳米的金属层在所述图形化的掩模层及所述基底的部分表面；以及去除所述图形化的掩模层，并保持所述金属层的形状和结构不变。利用本发明方法可制备多种中空或空心金属光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种金属光栅的制备方法，其包括以下步骤：提供一基底；设置一图形化的掩模层在所述基底的表面，该图形化的掩模层包括多个第一凹部，并使所述基底的部分表面通过所述多个第一凹部暴露出来；沉积一厚度大于10纳米的金属层在所述图形化的掩模层及所述基底的部分表面；以及去除所述图形化的掩模层，并保持所述金属层的形状和结构不变。
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