[发明专利]集成MEMS器件的传感器的晶圆级封装结构及封装方法有效
申请号: | 201310412718.7 | 申请日: | 2013-09-11 |
公开(公告)号: | CN103435000A | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 毛剑宏;金洪 | 申请(专利权)人: | 毛剑宏;金洪 |
主分类号: | B81B7/02 | 分类号: | B81B7/02;B81C1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201203 上海市张江高科*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种压力传感器芯片的封装方法及压力传感器,包括步骤:提供一压力传感器芯片,在MEMS器件层上形成保护层,所述保护层暴露所述焊垫;在所述保护层上方形成牺牲层,所述牺牲层暴露所述焊垫的位置;在所述焊垫上方形成第一金属层;在第一金属层和所述牺牲层上形成第二金属层;刻蚀所述第二金属层,形成位于第一金属层上的焊球。本发明中在刻蚀牺牲层以及金属互连层的步骤中,由于有保护层保护了感应部件的凹槽对应的较薄处,这样使得感应部件不受损伤,大大的提高了器件的可靠性,使得压力传感器芯片可以利用BGA封装,从而降低了封装尺寸,使得器件的体积缩小,成本较低,产品得到优化。 | ||
搜索关键词: | 集成 mems 器件 传感器 晶圆级 封装 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种集成MEMS器件的传感器晶圆级的封装方法,其特征在于,包括步骤:提供第一基板,其包括衬底,位于衬底上介电质层,在所述衬底中具有CMOS电路层,在所述介电质层中具有MEMS器件层,所述MEMS器件层上具有与MEMS器件电连接的焊垫;提供第二基板,其底面上具有数个接触孔;对所述第二基板的底面进行刻蚀,在所述接触孔之间形成凹槽,所述一个凹槽的容积可以容纳一个传感器所包含的MEMS器件;将第一基板的MEMS器件层所在表面与第二基板的底面进行键合,使得MEMS器件层位于所述凹槽和MEMS器件层表面形成的空腔内,并且所述接触孔的一端与所述焊垫连接;在接触孔的另一端形成焊球。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于毛剑宏;金洪,未经毛剑宏;金洪许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310412718.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:车载冷存装置
- 下一篇:一种基于α-淀粉酶制备人参浆的方法