[发明专利]用于通过检验技术判断半导体重叠工艺窗口的方法及系统

摘要

本发明揭露一种用于通过检验技术判断半导体重叠工艺窗口的方法及系统，其中，精密半导体装置中重叠区的形成是一项无法基于习知测量及设计策略有效率地予以评估的关键态样。为此，本揭露提供测量技术及系统，其中上覆装置图案转换成相同材料层，藉以形成通过建立良好的缺陷检验技术而可接取的组合图案。一旦几何性地调制这些组合图案中的一些组合图案，即可达成重叠工艺窗口的系统性评估。

主权项

一种方法，其包含：将半导体装置的第一布局层的第一图案转移至衬底的第一测试区与第二测试区上方所形成的材料层；将该半导体装置的第二布局层的第二图案转移至该第一测试区上方所形成的该材料层，该第一与第二布局层彼此空间性相关以便界定重叠区；将该第二图案的几何调制版本转移至该第二测试区上方所形成的该材料层；以及判断介于该第一测试区与该第二测试区间该材料层中的结构差异以便评定关于该重叠区的工艺余裕。