[发明专利]背面边缘隔离法制备多晶硅太阳电池的工艺方法有效

专利信息
申请号: 201310400428.0 申请日: 2013-09-06
公开(公告)号: CN103500771A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 刘强;薛小兴;杨斌;卢君 申请(专利权)人: 江苏爱多光伏科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 江阴大田知识产权代理事务所(普通合伙) 32247 代理人: 杨新勇
地址: 214400 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种背面边缘隔离多晶硅太阳电池的工艺方法,主要步骤为清洗制绒-扩散-点胶腐蚀浆料-加热-清洗-PECVD-丝网印刷-烧结,克服了现有技术中PN结隔离工艺的步骤繁琐,设备复杂,生产成本高,污染严重等缺点。本发明是通过去除背面边缘N型层达到PN结隔离的效果,完全避免了常规工艺中可能对硅片正面造成影响的各类因素,提高了硅片的品质,降低了生产成本,减少了化学品和气体的用量及排放量。
搜索关键词: 背面 边缘 隔离法 制备 多晶 太阳电池 工艺 方法
【主权项】:
一种背面边缘隔离法制备多晶体硅太阳电池的工艺方法,其特征在于,所述工艺方法包括如下步骤:(a)清洗制绒:将多晶硅片置于硝酸或铬酸和氢氟酸的混合溶液中,去除损伤层,形成绒面结构;(b)扩散制备PN结:将硅片置于三氯氧磷气氛中进行扩散,形成PN结;(c)腐蚀浆料:通过点胶法将腐蚀浆料均匀覆盖于硅片背面的边缘;(d)加热:将背面边缘覆盖有腐蚀浆料的硅片进行加热,反应后去除背面边缘的PN结;(e)清洗:洗去所述腐蚀浆料残余,去除正面磷硅玻璃;(f)采用PECVD技术在正面沉积氮化硅薄膜;(g)采用丝网印刷然后共烧形成合金的方式,在正面形成银电极,背面形成铝背场。
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