[发明专利]用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻有效
| 申请号: | 201310398877.6 | 申请日: | 2013-09-04 |
| 公开(公告)号: | CN103484840A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
| 发明(设计)人: | 孙蓉;苏星松;符显珠;郭慧子 | 申请(专利权)人: | 中国科学院深圳先进技术研究院 |
| 主分类号: | C23C18/30 | 分类号: | C23C18/30;C23C18/34;H01C7/00 |
| 代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 吴平 |
| 地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻。该用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂包括水、硫酸锌、DL-苹果酸钠和锌粉,其中,所述硫酸锌的浓度为20~200g/L、所述DL-苹果酸钠的浓度为10~50g/L、所述锌粉的浓度为5~30g/L。该活化剂不含有氯和钯。经实验证明,采用该活化剂对衬底进行活化后,能够在较低温度下在衬底上化学镀制镍磷薄膜,能耗较低,且不在化学镀液中引入氯,保证了镀液的稳定性。使用上述活化剂进行活化,有利于降低埋入式薄膜电阻的制备成本,并由于保证了镀液的稳定性,有利于保证镍磷薄膜的质量,从而保证埋入式薄膜电阻具有较好的性能。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 制备 埋入 薄膜 电阻 活化剂 方法 | ||
【主权项】:
一种用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂,其特征在于,包括水、硫酸锌、DL‑苹果酸钠和锌粉,其中,所述硫酸锌的浓度为20~200g/L、所述DL‑苹果酸钠的浓度为10~50g/L、所述锌粉的浓度为5~30g/L。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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