[发明专利]溅射装置在审
申请号: | 201310361795.4 | 申请日: | 2013-08-19 |
公开(公告)号: | CN104073772A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 沈载润;崔丞镐 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;姚志远 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 在溅射过程中能够有效减少目标损害的溅射装置包括:第一磁组件,第一磁组件在第一方向上延伸并包括在第一方向上延伸且相互对应的第一侧面和第二侧面,第一磁组件还包括在第一方向上延伸并连接第一侧面和第二侧面的第一底面;第一屏蔽件,第一屏蔽件位于第一磁组件的第一侧面上;以及第一支撑件,第一支撑件用于支撑第一圆柱管状目标的第一端和第二端,第一圆柱管状目标具有平行于第一方向的第一纵轴,第一圆柱管状目标容纳第一磁组件和第一屏蔽件。 | ||
搜索关键词: | 溅射 装置 | ||
【主权项】:
一种溅射装置,包括:第一磁组件,所述第一磁组件在第一方向上延伸并包括在所述第一方向上延伸且相互对应的第一侧面和第二侧面,所述第一磁组件还包括在所述第一方向上延伸并连接所述第一侧面和所述第二侧面的第一底面;第一屏蔽件,所述第一屏蔽件位于所述第一磁组件的第一侧面上;以及第一支撑件,所述第一支撑件用于支撑第一圆柱管状目标的第一端和第二端,所述第一圆柱管状目标具有平行于所述第一方向的第一纵轴,其中,所述第一圆柱管状目标容纳所述第一磁组件和所述第一屏蔽件。
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