[发明专利]利用可倾斜的高架RF感应源的等离子体反应器

摘要

通过使高架RF源功率施加器绕倾斜轴倾斜来执行等离子体蚀刻速率分布中的歪斜校正，倾斜轴的角度是由处理数据中的歪斜来确定的。通过结合对浮置板进行支撑的精确的三个轴向运动伺服系统来提供运动的完全自由度，从该浮置板悬挂高架RF源功率施加器。

主权项

一种用于处理工件的等离子体反应器，其包括：处理室壳体，其包括室侧壁以及室顶壁，并且工件保持件在所述处理室壳体内；导电RF壳体，其在所述室顶壁上方、并且包括RF壳体侧壁；浮置支撑板，其在所述导电RF壳体内并与所述导电RF壳体分离开；多个RF等离子体功率施加器，其从所述浮置支撑板悬挂在位于所述浮置支撑板下方、所述室顶壁上方的空间中；多个致动器，所述多个致动器相对于所述RF壳体侧壁固定并且绕所述RF壳体侧壁隔开周期性间隔，所述多个致动器中的每一者都包括：（a）电机驱动的轴向可移动臂，（b）可旋转接头，所述可旋转接头连接在所述轴向可移动臂和所述浮置支撑板的相应部分之间。