[发明专利]离线增反镀膜玻璃及其制造方法无效
| 申请号： | 201310352750.0 | 申请日： | 2013-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN103407231A | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 顾海波 | 申请（专利权）人： | 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | B32B17/06 | 分类号： | B32B17/06;C03C17/34 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 226001 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离线增反镀膜玻璃，包括玻璃基片，玻璃基片上设有依次设有钛的氧化物TiOx、氧化钛TiO2、硅的氧化物SiOx、氧化硅SiO2；离线增反镀膜玻璃的制备方法为：在双端离线高真空磁控溅射镀膜设备中，使其基础真空达到10ֿ³Pa，线速度为1.5米/分钟时，在玻璃上依次溅射钛的氧化物TiOx、氧化钛TiO2、硅的氧化物SiOx、氧化硅SiO2。本发明具有使用靶材成本低，能够实现高折射率效果的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 离线 镀膜 玻璃 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种离线减反镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于：所述玻璃基片上依次设有硅的氧化物SiOx、氧化硅SiO2、钛的氧化物TiOx、氧化钛TiO2，所述玻璃基片的厚度为3mm～15mm，所述硅的氧化物SiOx的厚度为35nm～45nm，所述氧化硅SiO2的厚度为30nm～40nm，所述钛的氧化物TiOx的厚度为25nm～35nm，所述氧化钛TiO2的厚度为25nm～32nm。
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