[发明专利]离线增反镀膜玻璃及其制造方法无效
| 申请号： | 201310352750.0 | 申请日： | 2013-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN103407231A | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 顾海波 | 申请（专利权）人： | 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | B32B17/06 | 分类号： | B32B17/06;C03C17/34 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 226001 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离线 镀膜 玻璃 及其 制造 方法 | ||
1.一种离线减反镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于：所述玻璃基片上依次设有硅的氧化物SiOx、氧化硅SiO2、钛的氧化物TiOx、氧化钛TiO2，所述玻璃基片的厚度为3mm～15mm，所述硅的氧化物SiOx的厚度为35nm～45nm，所述氧化硅SiO2的厚度为30nm～40nm，所述钛的氧化物TiOx的厚度为25nm～35nm，所述氧化钛TiO2的厚度为25nm～32nm。
2.根据权利要求1所述离线减反镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为6mm，所述硅的氧化物SiOx的厚度为38nm，所述氧化硅SiO2的厚度为42nm，所述钛的氧化物TiOx的厚度为25nm，所述氧化钛TiO2的厚度为33nm。
3.一种离线减反镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
A：选择3～15mm玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；
B：将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa，线速度设置为1.5米/分钟；
C：将玻璃基片送入镀膜室，依次设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为75KW～85KW，使用O2/Ar比例为900/100的工艺气体和硅靶在玻璃基片上溅射第一层35nm～45nm的硅的氧化物SiOx；
D：设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为58KW～65KW，使用O2/Ar比例为30/970的工艺气体和氧化硅靶在玻璃基片上溅射第二层15nm～20nm的氧化硅SiO2；
E：设置第三高真空磁控溅射镀膜设备的功率为58KW～65KW，使用O2/Ar比例为30/970的工艺气体和氧化硅靶在玻璃基片上溅射第三层15nm～20nm的氧化硅SiO2；
F：设置第四高真空磁控溅射镀膜设备的功率为55KW～60KW，使用O2/Ar比例为900/100的工艺气体和钛靶在玻璃基片上溅射第四层13nm～17nm的钛的氧化物TiOx；
G：设置第五高真空磁控溅射镀膜设备的功率为55KW～60KW，使用O2/Ar比例为900/100的工艺气体和钛靶在玻璃基片上溅射第四层13nm～17nm的钛的氧化物TiOx；
H：设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为78KW～82KW，使用O2/Ar比例为30/970的工艺气体和氧化钛靶在玻璃基片上溅射第六层25nm～32nm的氧化钛TiO2。
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