[发明专利]发光二极管及发光二极管制造方法有效

专利信息
申请号: 201310352606.7 申请日: 2013-08-14
公开(公告)号: CN104377284B 公开(公告)日: 2017-09-26
发明(设计)人: 林雅雯;邱镜学;凃博闵;黄世晟 申请(专利权)人: 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20;H01L33/00
代理公司: 深圳市鼎言知识产权代理有限公司44311 代理人: 徐丽昕
地址: 518109 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种发光二极管,包括蓝宝石基板,其表面形成有多个凸起。蓝宝石基板的具有凸起的表面上形成有未掺杂的GaN层。多个碳纳米管覆盖在未掺杂的GaN层的表面上,且相邻及交错的碳纳米管之间形成间隙以暴露出未掺杂的GaN层的部分表面。N型GaN层形成在未掺杂的GaN层的未被碳纳米管所覆盖的表面并侧向生长至覆盖所述碳纳米管。活性层以及P型GaN层依次形成在N型GaN层表面。所述碳纳米管可使到N型GaN层形成侧向生长,从而降低N型GaN层中的晶体缺陷。同时,由于碳纳米管的电阻率小于N型GaN层,其可使电流迅速扩散到N型GaN层的各个区域,从而提高了其的电流扩散性能。本发明还提供了一种发光二极管的制造方法。
搜索关键词: 发光二极管 制造 方法
【主权项】:
一种发光二极管,包括:蓝宝石基板,包括第一表面及与第一表面相对设置的第二表面,蓝宝石基板的第一表面形成有多个凸起;未掺杂的GaN层,形成在蓝宝石基板的第一表面;多个碳纳米管,覆盖在未掺杂的GaN层的表面,相邻及交错的碳纳米管之间形成间隙以暴露出未掺杂的GaN层的部分表面;N型GaN层,形成在未掺杂的GaN层的未被碳纳米管所覆盖的表面并侧向生长至覆盖所述碳纳米管,所述N型GaN层与所述碳纳米管周缘直接接触;活性层,形成在N型GaN层表面;P型GaN层,形成在活性层表面;以及蚀刻平台,所述蚀刻平台从P型GaN层延伸至N型GaN层以暴露出N型GaN层的部分表面,P型GaN层的表面形成有P型电极,N型GaN层的暴露的表面形成有N型电极,所述N型电极的底部与位于N型电极下方的碳纳米管的顶部之间的距离在0.3μm‑0.5μm范围内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司,未经展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310352606.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top