[发明专利]一种形成膜层的方法和基板有效
| 申请号： | 201310339744.1 | 申请日： | 2013-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN103439839A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 唐华;赵冉 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种形成膜层的方法和基板，属于膜层制备技术领域，其可解决现有的形成膜层方法易出现膜层不良的问题。本发明的形成膜层的方法包括在基板上形成第一层膜；对所述第一层膜进行第一次清洗；在所述第一层膜上形成第二层膜，所述第二层膜的材料与第一层膜的材料相同；对所述第二层膜进行第二次清洗。本发明的基板包括由上述形成膜层的方法制得的膜层。本发明可用于提升膜层品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种形成膜层的方法，其特征在于，包括：在基板上形成第一层膜；对所述第一层膜进行第一次清洗；在所述第一层膜上形成第二层膜，所述第二层膜的材料与第一层膜的材料相同；对所述第二层膜进行第二次清洗。
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