[发明专利]进气装置

摘要

本发明公开了一种进气装置。所述进气装置包括第一气体腔室和第二气体腔室，所述第一气体腔室位于第二气体腔室下方，所述第一气体腔室与第一气体通道相连通，所述第一气体通道用于将来自第一气体腔室的反应气体输送至反应区域，所述第二气体腔室与第二气体通道相连通，所述第二气体通道用于将来自第二气体腔室的反应气体输送至反应区域，每个所述第一气体通道内至少设置有一个所述第二气体通道并贯穿所述出气面，所述第一气体通道的沿平行所述出气面的截面形状为圆形、条形或扇形。这种结构使得制作难度有了明显的降低，也能够有效的降低由于预反应而产生的颗粒堵塞等状况的发生。

主权项

一种进气装置，用于MOCVD工艺，以向反应区域提供反应气体，所述进气装置面向反应区域的一面为出气面；其特征在于，包括第一气体腔室和第二气体腔室，所述第一气体腔室位于第二气体腔室下方，所述第一气体腔室与第一气体通道相连通，所述第一气体通道用于将来自第一气体腔室的反应气体输送至反应区域，所述第二气体腔室与第二气体通道相连通，所述第二气体通道用于将来自第二气体腔室的反应气体输送至反应区域，每个所述第一气体通道内至少设置有一个所述第二气体通道并贯穿所述出气面，所述第一气体通道的沿平行所述出气面的截面形状为圆形、条形或扇形。