[发明专利]进气装置

权利要求书

1.一种进气装置，用于MOCVD工艺，以向反应区域提供反应气体，所述进气装置面向反应区域的一面为出气面；其特征在于，包括第一气体腔室和第二气体腔室，所述第一气体腔室位于第二气体腔室下方，所述第一气体腔室与第一气体通道相连通，所述第一气体通道用于将来自第一气体腔室的反应气体输送至反应区域，所述第二气体腔室与第二气体通道相连通，所述第二气体通道用于将来自第二气体腔室的反应气体输送至反应区域，每个所述第一气体通道内至少设置有一个所述第二气体通道并贯穿所述出气面，所述第一气体通道的沿平行所述出气面的截面形状为圆形、条形或扇形。

2.如权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述进气装置包括依次层叠并间隔设置的底板、夹板和顶板，所述底板的朝向所述反应区域的一面为所述出气面，所述第二气体腔室位于所述顶板和夹板之间，所述第一气体腔室位于所述底板和夹板之间，所述第一气体通道和第二气体通道穿过所述底板。

3.如权利要求2所述的进气装置，其特征在于，所述第一气体通道的出气孔沿所述底板的朝向反应区域一侧的表面的中心向外呈辐射状排布，所述第一气体通道中设置了多个第二气体通道。

4.如权利要求2所述的进气装置，其特征在于，在每个第一气体通道内，所述第二气体通道的数量自所述出气面的中心沿半径方向向外增多。

5.如权利要求2所述的进气装置，其特征在于，所述第二气体通道与所述底板固定连接。

6.如权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述第一气体通道与第二气体通道之间具有保护气体通道，所述保护气体通道用于提供保护气体。

7.如权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述第二气体通道的形状为圆筒形或者椭筒形。

8.如权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述第一气体通道用于通入V族气体，所述第二气体通道用于通入III族气体。

9.如权利要求8所述的进气装置，其特征在于，所述第二气体通道的出气口低于所述第一气体通道的出气口。

10.如权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述第一气体通道与所述第二气体通道的材料为陶瓷或不锈钢。