[发明专利]具有多级净化结构的沉积设备中的反应器无效
申请号: | 201310248220.1 | 申请日: | 2013-06-18 |
公开(公告)号: | CN103510067A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 李相忍 | 申请(专利权)人: | 威科ALD有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明的实施例涉及在沉积设备中的反应器的结构,所述沉积设备通过使用多级文丘里效应从而能够有效去除在衬底上沉积的过量的材料。在反应器中,不同高度的收缩区形成在注入室和排气部之间。随着净化气体或前体从注入室行进至排气部并经过收缩区,气体的压力下降而气体的速度增加。压力和速度的这种变化有利于去除在衬底上沉积的过量的材料。 | ||
搜索关键词: | 具有 多级 净化 结构 沉积 设备 中的 反应器 | ||
【主权项】:
一种用于在衬底上沉积材料的沉积设备,包括:基座,被配置为接收一个或多个衬底;以及反应器,形成有:第一室,被配置为注入第一气体至移经所述第一室的所述一个或多个衬底上;第二室,被配置为注入第二气体至移经所述第二室的所述一个或多个衬底上;第一收缩区,被配置为在所述一个或多个衬底之上从所述第一室向所述第二室发送所述第一气体,所述第一收缩区形成于所述第一室和所述第二室之间,所述第一收缩区被配置为使得所述第一收缩区中的所述第一气体的压力低于所述第一室中的所述第一气体的压力,并且所述第一收缩区中的所述第一气体的速度高于所述第一室中的所述第一气体的速度;排气部,被配置为从所述反应器排放在暴露至所述一个或多个衬底之后残留的所述第一气体和所述第二气体;以及第二收缩区,被配置为在所述一个或多个衬底之上从所述第二室向所述排气部发送所述第一气体和所述第二气体,所述第二收缩区形成于所述第二室和所述排气部之间,所述第二收缩区被配置为使得所述第二收缩区中的所述第二气体的压力低于所述第二室中的所述第二气体的压力,并且所述第二收缩区中的所述第二气体的速度高于所述第二室中的所述第二气体的速度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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