[发明专利]一种浸没式光刻机及其流场维持方法

摘要

本发明涉及一种浸没式光刻机及其流场维持方法，其结构包括主框架、从上至下依次固定于所述主框架上的照明系统、投影物镜以及硅片台，所述硅片台上放置有涂有感光光刻胶的硅片，所述投影物镜与所述硅片之间填充有浸液，所述投影物镜与所述硅片之间还设有浸没限制机构，所述浸没限制机构上设有浸液供给开口、抽取开口以及气密封气体进口，所述浸液供给开口为浸液提供补给；所述抽取开口连接至分立的负压源，为浸液提供抽排负压；所述气密封气体进口包括第一气密封气体进口和第二气密封气体进口，所述第一气密封气体进口和第二气密封气体进口分别连接至分立的正压源，为浸液提供供气正压。本发明通过两个气密封气体进口的配合，以减少曝光缺陷。

主权项

一种浸没式光刻机，包括主框架、从上至下依次固定于所述主框架上的照明系统、投影物镜以及硅片台，所述硅片台上放置有涂有感光光刻胶的硅片，所述投影物镜与所述硅片之间填充有浸液，其特征在于，所述投影物镜与所述硅片之间还设有浸没限制机构，所述浸没限制机构上设有浸液供给开口、抽取开口以及气密封气体进口，所述浸液供给开口为浸液提供补给；所述抽取开口连接至分立的负压源，为浸液提供抽排负压；所述气密封气体进口包括第一气密封气体进口和第二气密封气体进口，所述第一气密封气体进口和第二气密封气体进口分别连接至分立的正压源，为浸液提供供气正压。