[发明专利]一种采用Si基衬底的二极管有效
申请号: | 201310242986.9 | 申请日: | 2013-06-19 |
公开(公告)号: | CN103311396A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 黄志文 | 申请(专利权)人: | 南宁市柳川华邦电子有限公司 |
主分类号: | H01L33/22 | 分类号: | H01L33/22;H01L21/329 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 530003 广西壮*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 本发明公开了一种采用Si基衬底的二极管,它涉及一种二极管。它包括背面Tu电极、Si衬底、AlN缓冲层、AlGaN缓冲层、AlN/GaN超晶格层、粘贴金属、金属反射镜、GaN外延层和正面Tu电极,背面Tu电极上设置有Si衬底,Si衬底上依次设置有AlN缓冲层、AlGaN缓冲层、AlN/GaN超晶格层、粘贴金属、金属反射镜和GaN外延层,GaN外延层外部设置有正面Tu电极。本发明衬底热导率高,可靠性高,发光层背面为金属反射镜,表面有粗化结构,取光效率高。 | ||
搜索关键词: | 一种 采用 si 衬底 二极管 | ||
【主权项】:
一种采用Si基衬底的二极管,其特征在于,包括背面Tu电极(1)、Si衬底(2)、AlN缓冲层(3)、AlGaN缓冲层(4)、AlN/GaN超晶格层(5)、粘贴金属(6)、金属反射镜(7)、GaN外延层(8)和正面Tu电极(9),背面Tu电极(1)上设置有Si衬底(2),Si衬底(2)上依次设置有AlN缓冲层(3)、AlGaN缓冲层(4)、AlN/GaN超晶格层(5)、粘贴金属(6)、金属反射镜(7)和GaN外延层(8),GaN外延层(8)外部设置有正面Tu电极(9)。
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