[发明专利]晶体硅抛光液的添加剂及其使用方法有效
申请号: | 201310239830.5 | 申请日: | 2013-06-18 |
公开(公告)号: | CN103320018A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 章圆圆;陈培良;符黎明 | 申请(专利权)人: | 常州时创能源科技有限公司 |
主分类号: | C09G1/00 | 分类号: | C09G1/00;H01L21/306 |
代理公司: | 南京汇盛专利商标事务所(普通合伙) 32238 | 代理人: | 陈扬 |
地址: | 213300 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了用于晶体硅抛光液的添加剂,由烷基糖苷、吡嗪、聚乙二醇和水组成。在对硅片进行表面抛光时,将本发明的添加剂加入到碱性溶液中,可达到优异的抛光效果。 | ||
搜索关键词: | 晶体 抛光 添加剂 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
用于晶体硅抛光液的添加剂,其特征在于,由烷基糖苷、吡嗪、聚乙二醇和水组成。
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