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[发明专利]抛光组合物及其使用方法-CN202080003981.9在审
发明人：梁燕南;温立清;胡斌;林大为 -专利权人：富士胶片电子材料美国有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：一种抛光组合物包括：磨料；pH调节剂；阻挡膜移除速率增强剂；第一低k移除速率抑制剂；第二低k移除速率抑制剂；含唑腐蚀抑制剂；及钴腐蚀抑制剂。本公开涉及使用本文所述的抛光组合物抛光包含钴的基底的方法。
抛光组合及其使用方法

[发明专利]一种半导体晶圆加工过程中抛光液循环利用的方法-CN201910827418.2在审
发明人：赵斌;陈俊辉;杨柳 -专利权人：福建晶安光电有限公司
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2020-02-04 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体晶圆加工过程中抛光液循环利用的方法，一种半导体晶圆加工过程中抛光液循环利用的方法，包括以下步骤：步骤S1、将抛光晶片所产生的抛光液中通入可挥发性氧化剂；步骤S2、进行粗滤；步骤S3、进行精滤；步骤S4、进行搅拌；步骤S5、pH调节，对抛光液桶中的回收液，用磷酸或氢氧化钠进行pH酸碱调节到适用的酸碱度；步骤S6、电解，用电极棒探测电极，将抛光液导入电解槽，电解提取金属收集，金属物质；步骤S7、清洗抛光液桶；步骤S8、检测。采用上述方案后，本发明通过重复使用回收的浆料，过滤大颗粒减少微划痕比例，对于质量有着明显的改善大幅度的提高抛光液的利用率。
抛光液半导体晶圆抛光液桶循环利用可挥发性氧化剂酸碱度电解提取金属金属物质抛光晶片氢氧化钠酸碱调节探测电极大颗粒电解槽回收液微划痕磷酸粗滤极棒浆料精滤电解过滤清洗回收检测

[发明专利]用于从表面去除氧化铈粒子的组合物和方法-CN201880007539.6在审
发明人： D·怀特;T·帕尔松;M·怀特;E·I·库珀;A·达斯 -专利权人：恩特格里斯公司
申请日： 2018-01-17 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种去除组合物和工艺，其用于从上面具有化学机械抛光CMP后污染物和氧化铈粒子的微电子装置清洁所述粒子和污染物。所述组合物实现所述氧化铈粒子和CMP污染物材料从所述微电子装置的表面的高度有效去除而不会损坏低k介电材料、氮化硅或含钨材料。
氧化铈粒子微电子装置去除污染物化学机械抛光低k介电材料污染物材料表面去除含钨材料氮化硅粒子清洁

[发明专利]抛光系统以及制备和使用抛光系统的方法-CN201780010242.0在审
发明人：约翰·J·加戈里亚迪;埃里克·C·科德;保罗·S·勒格 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2017-02-10 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光系统，所述抛光系统包括待抛光的基板和抛光垫。所述抛光垫包括基底层和抗磨损层。所述系统还包括设置在所述抛光垫与所述基板之间的抛光液。所述抛光液包含流体组分和多个陶瓷磨料复合物。陶瓷磨料复合物包括均匀地分散在整个多孔陶瓷基体上的单独的磨料颗粒。多孔陶瓷基体的至少一部分包含玻璃状陶瓷材料。所述陶瓷磨料复合物分散在所述流体组分中。
抛光系统陶瓷磨料复合物抛光垫多孔陶瓷基体抛光液基板流体抗磨损层磨料颗粒陶瓷材料抛光玻璃状基底层制备

[发明专利]脱除废弃抛光粉中硅铝杂质的方法-CN201710284541.5在审
发明人：杨玉飞;潘悦怡;黄启飞;张晶;王希尹;杨金忠;迭庆杞;方艳艳 -专利权人：中国环境科学研究院
申请日： 2017-04-25 - 公布日： 2017-09-05 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本申请提供一种脱除废弃抛光粉中硅铝杂质的方法，包括提供含有硅铝杂质的废弃抛光粉；提供浓度为0.25摩尔/升至1.75摩尔/升的碱溶液，并将所述废弃抛光粉加入所述碱溶液中进行浸出反应，浸出反应时间为65分钟至105分钟，浸出反应温度为85摄氏度至95摄氏度，所述碱溶液中的碱与所述废弃抛光粉的质量比为0.75～1.5；将浸出反应后的混合液降温至室温，从而获得反应后的浸出液；对所述浸出液进行过滤处理，过滤得到脱除出所述硅铝杂质的废弃抛光粉。
脱除废弃抛光粉中硅铝杂质方法

[实用新型]一种循环嵌入式抛光蜡-CN201420260188.9有效
发明人：冯键坤 -专利权人：冯键坤
申请日： 2014-05-21 - 公布日： 2014-11-26 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及抛光产品生产领域，具体的说是一种循环嵌入式抛光蜡，包括蜡体，其一端设有把柄，另一端设有与把柄相配合的凹孔。本实用新型更易手持，操作更加轻松省力。并且可以两两拼接，解决了“蜡头”的问题，操作安全性更高，同时避免了浪费，为企业节约了大量的成本。
一种循环嵌入式抛光

[发明专利]一种鞋油用防霉剂-CN201310312051.3无效
发明人：凌元若 -专利权人：吴江市利达上光制品有限公司
申请日： 2013-07-24 - 公布日： 2013-11-27 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本发明公开一种鞋油用防霉剂。本发明涉及鞋油的辅料领域。本发明内容是：一种鞋油用防霉剂，其特征在于：所述防霉剂由40－60％苯甲酸钠，40－60％酮康唑组成。所述苯甲酸钠和酮康唑根据比例，按照倍比递增原则混匀，溶于甘油中，在80-90℃，与鞋油聚合物1：5－10混合，制成有活性的防霉母粒。本发明是一种低毒，高效，稳定性好的鞋油用防霉剂。
一种鞋油防霉

[发明专利]晶体硅抛光液的添加剂及其使用方法-CN201310239830.5有效
发明人：章圆圆;陈培良;符黎明 -专利权人：常州时创能源科技有限公司
申请日： 2013-06-18 - 公布日： 2013-09-25 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本发明公开了用于晶体硅抛光液的添加剂，由烷基糖苷、吡嗪、聚乙二醇和水组成。在对硅片进行表面抛光时，将本发明的添加剂加入到碱性溶液中，可达到优异的抛光效果。
晶体抛光添加剂及其使用方法

[发明专利]一种白鞋油及其制备方法-CN201110325159.7无效
发明人：汤治强 -专利权人：汤治强
申请日： 2011-10-24 - 公布日： 2013-04-24 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种白鞋油及其制备方法，该白鞋油包括以下重量份数的组分：二氧化钛1-4份、锌钡白10-20份、漂白虫胶1-4份、氢氧化铵0.2-0.3份、水20-25份、甘油1-4份、酒精20-25份。这些原料通过溶解、搅拌的步骤制得的白鞋油增白效果佳，而且能持久保持白皮鞋光泽度。
一种鞋油及其制备方法

[实用新型]涡流形抛光蜡-CN201220566486.1有效
发明人：胡华明 -专利权人：韶关市超越研磨材料有限公司
申请日： 2012-10-31 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种涡流形抛光蜡，在它的其中一个面上设有涡流形状。在涡流形抛光蜡的一个面上设有涡流形状，使用时，只需将外包装一点点撕开，抛光蜡就能顺着涡流线一点点使用，不会造成浪费，同时在抛光打磨时，顺着涡流线一点点地使用，只产生35℃左右的温度，不会导致抛光的材料表面烧伤或烫伤，提高了产品质量。
涡流抛光

[发明专利]一种液晶显示器抛光粉的生产方法-CN200710045691.7无效
发明人：李玉平 -专利权人：上海界龙稀土精细研磨材料有限公司
申请日： 2007-09-07 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：一种液晶显示器抛光粉的生产方法。其步骤如下：室温下在REO＝80～100克/升、CeO₂/REO≥70％的氯化稀土溶液中，搅拌下加含量为30～40％的氟硅酸，5分钟后加添加剂A，升温70～80℃并保持温度，加混合沉淀剂溶液，至反应终点，pH值为7，搅拌10分钟；静置3～5小时，虹吸去上清液；搅拌下加冷水至近满槽，停搅拌前加絮凝剂溶液至出现絮凝效果，静置、沉降、虹吸去上清液，如此三遍；洗后升温至98℃保持10分钟，放料过120目不锈钢筛；固液分离真空抽滤加离心机脱水；滤饼移入石英材料匣钵，装料厚度≤9cm，送入900℃隔焰隧道窑，经预热段失水和一定程度分解转化后，于900℃高温段焙烧3～4小时，再过冷却段降温至＜400℃出窑；焙烧物冷却至近室温，进行分级处理，合格品为产品。
一种液晶显示器抛光生产方法

[发明专利]使用双相基片清洗混合物的方法和系统-CN200680048939.9无效
发明人：米哈伊尔·科罗利克;埃里克·M·弗里尔;约翰·M·德拉里奥斯;卡特里娜·米哈利钦科;迈克·拉夫金;弗雷德·雷德克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2006-12-19 - 公布日： 2009-02-18 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：提供清洁混合物、装置以及方法以从基片表面去除污染物。提供一种示范性的清洁混合物，以从半导体基片表面去除粒子污染物。该清洁混合物包括粘性流体，其粘度在大约1cP到大约10,000cP之间。该清洁混合物还包括分散在该粘性流体中的多个固体成分，该多个固体成分与该粒子基片表面上的污染物相互作用以从该基片表面去除该粒子污染物。
使用双相基片清洗混合物方法系统

[发明专利]检测用于形成半导体器件的浆料的方法-CN200580051929.6无效
发明人：菲利普·莫努瓦耶;雅诺什·法尔卡斯;法里迪·瑟贝 -专利权人：飞思卡尔半导体公司
申请日： 2005-10-25 - 公布日： 2008-12-03 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：一种形成半导体器件的方法，该方法包括提供半导体衬底，向半导体衬底上施加浆料，其中使用检测方法检测该浆料，该检测方法包括从浆料顶部获取(12)第一未稀释样品；确定(18)第一未稀释样品的第一颗粒大小分布特征；从浆料底部获取(14)第二未稀释样品；确定(19)第二未稀释样品的第二颗粒大小分布特征；并且将第一颗粒大小分布特征和第二颗粒大小分布特征之间的差值与第一预定值比较(20)。
检测用于形成半导体器件浆料方法

[发明专利]一种抛光膜及其制备方法-CN200710193158.5有效
发明人：贾晓林;汪静;王森 -专利权人：河南省联合磨料磨具有限公司
申请日： 2007-12-17 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光膜及其制备方法，其以超细微粉为研磨材料，采用流延涂布法制备，即将粉状或粒状的树脂溶于有机溶剂中，并加入功能性添加剂制成树脂胶，再将经表面改性的超细微粉研磨剂加入到树脂胶中，充分混合制成涂布液，然后以流延涂布法将涂料均匀地涂布在柔性衬底材料表面，经干燥、固化，即得。本发明的设备投资小，操作简单，生产效率及自动化水平高，工艺稳定，薄膜性能均一，其制造成本低廉，而且能够很方便地根据每一个用户对产品的不同质量要求和标准，对流延工艺参数进行调整，实现多规格、小批量生产，克服了辊涂法由于设备结构的限制带来的产品规格快速变换困难的问题。
一种抛光及其制备方法

[发明专利]抛光溶液-CN200580042525.0有效
发明人：杰弗里·S·科洛奇 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2005-10-25 - 公布日： 2007-11-21 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本发明描述了包含两种不同有机酸的抛光溶液。第一有机酸为多官能氨基酸。第二有机酸选自：简单羧酸、羟基－羧酸、及其组合。简单羧酸可以是单官能或多官能的简单羧酸。本发明还描述了提供增强清除速率的包含两种不同有机酸的抛光溶液。本发明还描述了抛光表面的方法，所述表面包括含铜的金属表面。
抛光溶液

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