[发明专利]等离子体处理装置、生成装置及生成方法、天线结构体有效
申请号: | 201310233964.6 | 申请日: | 2013-06-13 |
公开(公告)号: | CN103491700B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | 山泽阳平;傅宝一树;木村隆文;舆水地盐;佐佐木和男;内藤启;古屋敦城 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种等离子体处理装置、生成装置及生成方法、天线结构体,能够使装置结构简单化并且能够防止等离子体的生成效率下降。等离子体处理装置(10)具备腔室(11);载置台(12),其配置于该腔室(11)的内部并载置基板(S);ICP天线(13),其在腔室(11)的外部被配置成与载置台(12)对置并与高频电源(26)相连接;以及窗构件(14),其存在于载置台(12)与ICP天线(13)之间并包含导电体,其中,窗构件(14)被分割成多个分割片(27),多个分割片(27)彼此绝缘并且通过导线(29)、带电容器的导线(30)相连接而形成闭合回路(31)。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 生成 方法 天线 结构 | ||
【主权项】:
一种等离子体处理装置,具备:处理室,其收容基板;载置台,其被配置在上述处理室的内部并载置上述基板;以及感应耦合天线,其在上述处理室的外部被配置成与上述载置台对置,并与高频电源相连接,该等离子体处理装置的特征在于,还具备窗构件,该窗构件构成与上述感应耦合天线对置的上述处理室的壁部,存在于上述载置台与上述感应耦合天线之间,由导电体构成,上述窗构件被分割成多个分割片,上述多个分割片彼此不直接接触使得彼此不会电导通,上述多个分割片中的至少部分分割片通过导线相连接而形成闭合回路,上述闭合回路的连接各上述分割片的上述导线中的至少一个导线具有电容器。
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