[发明专利]多片双面薄膜快速沉积装置有效
| 申请号： | 201310233800.3 | 申请日： | 2013-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN103276363A | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 陶伯万;熊杰;朱昌伟;徐亚新;李言荣 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50 |
| 代理公司： | 成都惠迪专利事务所 51215 | 代理人： | 刘勋 |
| 地址： | 610000 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 多片双面薄膜快速沉积装置，涉及薄膜沉积技术。本发明的多片双面薄膜快速沉积装置包括基片台、传动机构、靶材盒，基片台和传动机构连接，其特征在于，所述基片台设置有至少两个通孔，通孔的两端设置有点式限位机构，基片台设置于第一加热片和第二加热片之间的加热腔中，第一加热片和第二加热片设置有作为沉积区的开口，开口位置与基片台上的通孔位置适配。本发明可以实现在衬底的两面同时快速生长薄膜，并且保证衬底两面薄膜的均匀性和两面的一致性，制备效率提高10倍以上。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 薄膜 快速 沉积 装置 | ||
【主权项】：
多片双面薄膜快速沉积装置，包括基片台[1]、传动机构[6]、基片台[1]和传动机构[6]连接，其特征在于，还包括两个靶材盒[7]，所述基片台[1]设置有至少两个通孔[2]，通孔[2]的两端设置有点式限位机构[4]，基片台[1]设置于第一加热片[15]和第二加热片[16]之间的加热腔中，第一加热片[15]和第二加热片[16]设置有作为沉积区的开口，开口位置与基片台[1]上的通孔[2]位置适配。
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