[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置有效
| 申请号： | 201310210510.7 | 申请日： | 2013-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN103309108A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 崔贤植;李会;徐智强;严允晟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1368 | 分类号： | G02F1/1368 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置，涉及显示领域，可在不降低透过率的前提下，解决液晶显示器出现偏绿(Greenish)及水平X-talk等显示不良问题，提高显示装置尤其是高分辨率产品的画面品质。本发明所述阵列基板，包括：基板，自下而上依次设置于所述基板上的半导体层、源漏电极层、栅绝缘层，还包括：设置在所述栅绝缘层上的第一栅金属层；设置在所述半导体层的下方的第二栅绝缘层；以及，设置在所述第二栅绝缘层与所述基板之间的第二栅金属层。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括：基板和自下而上依次设置于所述基板上的半导体层、源漏电极层、栅绝缘层，其特征在于，所述阵列基板还包括：设置在所述栅绝缘层上的第一栅金属层；设置在所述半导体层的下方的第二栅绝缘层；以及，设置在所述第二栅绝缘层与所述基板之间的第二栅金属层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310210510.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
