[发明专利]沉积装置及使用该装置的薄膜沉积方法有效
| 申请号： | 201310183635.5 | 申请日： | 2013-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN103805944B | 公开（公告）日： | 2017-12-26 |
| 发明（设计）人： | 任子贤;田炳勋;李宽熙 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司11204 | 代理人： | 余朦,姚志远 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据本发明一实施例的沉积装置包括沉积室、第一组沉积源以及第二组沉积源。所述沉积室包括第一等候区域、沉积区域以及第二等候区域。在所述第一等候区域和所述第二等候区域之间可以设置有所述沉积区域。所述第一组沉积源用于从所述第一等候区域向所述沉积区域移动、并且向设置在所述沉积区域的基底基板提供第一组沉积物质。所述第二组沉积源用于从所述第二等候区域向所述沉积区域移动、并且向所述基底基板提供第二组沉积物质。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 使用 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种沉积装置，包括：沉积室，具有第一等候区域、沉积区域以及第二等候区域；保持部件，设置在所述沉积区域中，并且用于固定基底基板；第一组沉积源，用于从所述第一等候区域向所述沉积区域移动、并且向所述基底基板提供第一组沉积物质；以及第二组沉积源，以所述第一组沉积源的移动方向为准与所述第一组沉积源相互面对设置，用于从所述第二等候区域向所述沉积区域移动、并且向所述基底基板提供与所述第一组沉积物质不同的第二组沉积物质，其中，所述第一组沉积源与所述第二组沉积源相互独立地移动。
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