[发明专利]一种掩膜板的清洗方法无效
| 申请号： | 201310173911.X | 申请日： | 2013-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN104157546A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 陈子勇;李雪峰;管玉成;黄震寰;赵云翔;李鑫;许晓翠;李方圆;倪智平 | 申请（专利权）人： | 上海鸿辉光通科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙) 31241 | 代理人： | 倪继祖 |
| 地址： | 201822 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板的清洗方法，包括以下步骤：将掩膜板浸泡在丙酮中，同时用滚筒刷对掩膜板的表面从各个方向进行滚动刷洗；再将掩膜板浸泡在去离子水中进行超声清洗；重复以下步骤5次：将掩膜板放入气体和液体的强力混合流体中进行清洗后，再将掩膜板放入流动的去离子水中进行冲洗；最后将掩膜板用气体吹干。本发明方法采用丙酮并配以聚乙烯醇材质的滚筒刷来代替SPM溶液，清洗效果与现有SPM溶液清洗方法相当，但是由于丙酮不会与Cr发生化学反应，它只是将光刻胶等杂质去除而不会将掩膜板上的图形破坏，因此减少了因清洗而对掩膜板造成的损伤，从而提高掩膜板的寿命，降低企业的生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括以下步骤：S1：将掩膜板浸泡在丙酮中，同时用滚筒刷对掩膜板的表面从各个方向进行滚动刷洗；S2：将掩膜板浸泡在去离子水中进行超声清洗；S3：将掩膜板放入气体和液体的强力混合流体中进行清洗；S4：将掩膜板放入流动的去离子水中进行冲洗；S5：重复步骤S3、S4的操作进行5次；S6：将掩膜板用气体吹干。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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