[发明专利]一种用于非线性光学晶体的探伤装置及探伤方法有效
| 申请号： | 201310169126.7 | 申请日： | 2013-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN103308442A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 胡章贵;李小矛;岳银超 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | G01N17/00 | 分类号： | G01N17/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及非线性光学晶体探伤技术领域，特别涉及一种用于非线性光学晶体的探伤装置和其使用方法，包括激光发生器、衰减器、能量计、光闸、会聚透镜和显微镜，激光发生器用于产生射向非线性光学晶体的激光；会聚透镜位于该激光的光路上，用于将该激光会聚到非线性光学晶体上；光闸位于从激光发生器到会聚透镜之间的激光光路上，用于控制激光光路的通断；能量计用于测量射向非线性光学晶体的激光的能量；衰减器用于调整射向非线性光学晶体的激光的能量；显微镜用于观察非线性光学晶体在激光照射下的损伤情况。利用本探伤装置可方便的获得辐照激光强度和待测非线性光学晶体在该激光强度照射下的损伤情况，便于进行连续多组探伤实验。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 非线性 光学 晶体 探伤 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于非线性光学晶体的探伤装置，其特征在于：包括激光发生器、衰减器、能量计、光闸、会聚透镜和显微镜，所述激光发生器，用于产生射向所述非线性光学晶体的激光；所述会聚透镜，位于所述激光的光路上，用于将所述激光会聚到所述非线性光学晶体上；所述光闸，位于从所述激光发生器到所述会聚透镜之间的所述激光的光路上，用于控制所述激光的光路的通断；所述能量计，用于测量射向所述非线性光学晶体的激光的能量；所述衰减器，用于调整射向所述非线性光学晶体的激光的能量；所述显微镜，用于观察所述非线性光学晶体在所述激光照射下的损伤情况。
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