[发明专利]一种用于非线性光学晶体的探伤装置及探伤方法有效

专利信息
申请号: 201310169126.7 申请日: 2013-05-09
公开(公告)号: CN103308442A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 胡章贵;李小矛;岳银超 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: G01N17/00 分类号: G01N17/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 韩国胜
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 非线性 光学 晶体 探伤 装置 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及光学探伤技术领域,特别涉及一种用于非线性光学晶体的探伤装置及探伤方法。

背景技术

随着激光技术的快速发展,非线性光学晶体的应用也越来越广泛,在科学研究、工业生产以及社会生活等各个领域发挥着重要的作用。尤其在实现固体激光器从红外波段到紫外区域不同波长的激光输出时,最为常用而又有效的方法便是利用非线性光学晶体进行频率变换。在高能量、大功率激光器中,这些晶体容易损伤从而导致光束质量下降,所以该类晶体的抗激光损伤能力成为了限制激光器输出功率最为重要的因素之一。因此需要对非晶体光学晶体进行探伤。现有探伤装置大都是采用激光直接照射配合显微镜观察的方法,然后在文献中给出实验数据,并没有详实的非线性光学晶体探伤装置和测量方法的描述。

为了解决以上问题,本发明做了有益改进。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明的目的是克服了现有技术缺乏测量使用方便的探伤装置的缺点,提供一种能够连续、多组测量的用于非线性光学晶体的探伤装置。

本发明另一个要解决的技术问题是提供一种使用上述用于非线性光学晶体的探伤装置的方法。

(二)技术方案

对于一种用于非线性光学晶体的探伤装置这一技术主题,本发明是通过以下技术方案实现的:

一种用于非线性光学晶体的探伤装置,包括激光发生器、衰减器、能量计、光闸、会聚透镜和显微镜,

所述激光发生器,用于产生射向所述非线性光学晶体的激光;

所述会聚透镜,位于所述激光的光路上,用于将所述激光会聚到所述非线性光学晶体上;

所述光闸,位于从所述激光发生器到所述会聚透镜之间的所述激光的光路上,用于控制所述激光的光路的通断;

所述能量计,用于测量射向所述非线性光学晶体的激光的能量;

所述衰减器,用于调整射向所述非线性光学晶体的激光的能量;

所述显微镜,用于观察所述非线性光学晶体在所述激光照射下的损伤情况。

进一步,所述会聚透镜的焦点落在所述非线性光学晶体的内部。

进一步,还包括控制器,所述控制器与所述光闸电连接,用于向所述光闸发出光路通断控制信号。

更进一步,所述控制器还包括显示器,所述显示器与所述显微镜电连接,用于显示显微镜中的图像。

更进一步,所述能量计与所述控制器电连接,所述控制器用于记录存储所述能量计测得的数据。

进一步,从所述激光发生器到所述会聚透镜之间的所述激光的光路上还设有第一全反射镜和第二全反射镜;

从所述激光发生器产生的激光,经过所述第一全反射镜反射到所述衰减器的输入端;

从所述衰减器的输出端射出的激光,射入所述光闸的输入端;

从所述光闸的输出端射出的激光,经过所述第二全反射镜反射到所述会聚透镜的输入端;

从所述会聚透镜的输出端射出的激光,会聚到所述非线性光学晶体上。

进一步,从所述衰减器到所述光闸之间的光路上还设有分光镜,所述分光镜用于将从所述衰减器的输出端射出的激光分成反射光和透射光,所述反射光射入所述能量计,所述透射光射入所述光闸的输入端。

进一步,从所述第二全反射镜到所述会聚透镜之间的光路上,还设有用于调整焦斑的缩束器。

进一步,还包括一个用于指示所述第二全反射镜输出激光方向的连续激光器,所述第二全反射镜射向所述会聚透镜的激光方向与所述连续激光器发出激光的方向相同。

对于一种用于非线性光学晶体的探伤方法这一技术主题,本发明是通过以下技术方案实现的:

一种用于非线性光学晶体的探伤方法,包括如下步骤:

步骤1,将待探伤的非线性光学晶体置于任一所述的用于非线性光学晶体的探伤装置的所述会聚透镜的输出端的焦点上;

步骤2,调整所述衰减器,并通过所述能量计记录射向待探伤的所述非线性光学晶体的激光的能量;

步骤3,通过所述显微镜观察所述非线性光学晶体在所述激光照射下的损伤情况。

(三)有益效果

与现有技术和产品相比,本发明有如下优点:

1、利用本发明的探伤装置可以很方便的获得照射激光的强度和待测非线性光学晶体在该激光强度辐照下的损伤情况,因此可以很方便的进行连续多组探伤实验,甚至可以得到非线性光学晶体损伤情况与激光辐照强度的曲线,通过更多的数据,使人们更多了解到非线性光学晶体这方面的特征。

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