[发明专利]一种用于非线性光学晶体的探伤装置及探伤方法有效
申请号: | 201310169126.7 | 申请日: | 2013-05-09 |
公开(公告)号: | CN103308442A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 胡章贵;李小矛;岳银超 | 申请(专利权)人: | 中国科学院理化技术研究所 |
主分类号: | G01N17/00 | 分类号: | G01N17/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 韩国胜 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 非线性 光学 晶体 探伤 装置 方法 | ||
1.一种用于非线性光学晶体的探伤装置,其特征在于:包括激光发生器、衰减器、能量计、光闸、会聚透镜和显微镜,
所述激光发生器,用于产生射向所述非线性光学晶体的激光;
所述会聚透镜,位于所述激光的光路上,用于将所述激光会聚到所述非线性光学晶体上;
所述光闸,位于从所述激光发生器到所述会聚透镜之间的所述激光的光路上,用于控制所述激光的光路的通断;
所述能量计,用于测量射向所述非线性光学晶体的激光的能量;
所述衰减器,用于调整射向所述非线性光学晶体的激光的能量;
所述显微镜,用于观察所述非线性光学晶体在所述激光照射下的损伤情况。
2.根据权利要求1所述的用于非线性光学晶体的探伤装置,其特征在于:所述会聚透镜的焦点落在所述非线性光学晶体的内部。
3.根据权利要求1所述的用于非线性光学晶体的探伤装置,其特征在于:还包括控制器,所述控制器与所述光闸电连接,用于向所述光闸发出光路通断控制信号。
4.根据权利要求3所述的用于非线性光学晶体的探伤装置,其特征在于:所述控制器还包括显示器,所述显示器与所述显微镜电连接,用于显示显微镜中的图像。
5.根据权利要求3所述的用于非线性光学晶体的探伤装置,其特征在于:所述能量计与所述控制器电连接,所述控制器用于记录存储所述能量计测得的数据。
6.根据权利要求1所述的用于非线性光学晶体的探伤装置,其特征在于:从所述激光发生器到所述会聚透镜之间的所述激光的光路上还设有第一全反射镜和第二全反射镜;
从所述激光发生器产生的激光,经过所述第一全反射镜反射到所述衰减器的输入端;
从所述衰减器的输出端射出的激光,射入所述光闸的输入端;
从所述光闸的输出端射出的激光,经过所述第二全反射镜反射到所述会聚透镜的输入端;
从所述会聚透镜的输出端射出的激光,会聚到所述非线性光学晶体上。
7.根据权利要求6所述的用于非线性光学晶体的探伤装置,其特征在于:从所述衰减器到所述光闸之间的光路上还设有分光镜,所述分光镜用于将从所述衰减器的输出端射出的激光分成反射光和透射光,所述反射光射入所述能量计,所述透射光射入所述光闸的输入端。
8.根据权利要求6所述的用于非线性光学晶体的探伤装置,其特征在于:从所述第二全反射镜到所述会聚透镜之间的光路上,还设有用于调整焦斑的缩束器。
9.根据权利要求6所述的用于非线性光学晶体的探伤装置,其特征在于:还包括一个用于指示所述第二全反射镜输出激光方向的连续激光器,所述第二全反射镜射向所述会聚透镜的激光方向与所述连续激光器发出激光的方向相同。
10.一种用于非线性光学晶体的探伤方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1,将待探伤的非线性光学晶体置于如权利要求1至9任一所述的用于非线性光学晶体的探伤装置的所述会聚透镜的输出端的焦点上;
步骤2,调整所述衰减器,并通过所述能量计记录射向待探伤的所述非线性光学晶体的激光的能量;
步骤3,通过所述显微镜观察所述非线性光学晶体在所述激光照射下的损伤情况。
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