[发明专利]一种连续能谱电子源的制造装置无效
申请号: | 201310145194.X | 申请日: | 2013-04-24 |
公开(公告)号: | CN103226986A | 公开(公告)日: | 2013-07-31 |
发明(设计)人: | 汤道坦;李得天;杨生胜;秦晓刚;李存惠;柳青 | 申请(专利权)人: | 兰州空间技术物理研究所 |
主分类号: | G21K1/10 | 分类号: | G21K1/10 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 杨志兵;李爱英 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本发明涉及一种连续能谱电子源的制造装置,属于空间应用技术领域。所述装置为在电子枪下施加一个电子束散射薄膜,所述薄膜为一面镀有铝层,另一面镀有同心银环的Kapton薄膜;实际使用时,将装有所述电子束散射薄膜的铝盘和电子枪安装在真空室内,通过导线将铝盘接地;给真空室抽真空至10-4Pa,开启电子枪,使电子枪发射单能电子束,所述单能电子束穿过电子束散射薄膜后,得到具有连续能谱的电子束。能够比较真实的模拟空间电子环境,适用于卫星表面充放电实验的使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 电子 制造 装置 | ||
【主权项】:
一种连续能谱电子源的制造装置,其特征在于:所述装置为在电子枪下施加一个圆形的电子束散射薄膜,薄膜一面镀有同心银环(8),另一面镀有铝层,电子枪发射端与薄膜镀有同心银环(8)的一面相对,所述薄膜为Kapton薄膜(9)。
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