[发明专利]一种制备掺氮二氧化钛多孔膜的方法有效
申请号: | 201310127166.5 | 申请日: | 2013-04-12 |
公开(公告)号: | CN103194731A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 覃勇;陈朝秋;王桂振;段菲菲;陈彩营 | 申请(专利权)人: | 中国科学院山西煤炭化学研究所 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/44 |
代理公司: | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人: | 刘宝贤 |
地址: | 030001 *** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 一种制备掺氮二氧化钛多孔膜的方法是将基底材料放入原子层沉积设备的反应腔进行TiO2保护膜的沉积,在基底材料表面得到不同厚度的含钛有机-无机复合膜,在空气,氧气或惰性气氛中在350-800oC高温处理1-2h,除去含钛有机-无机复合膜中有机组分,得到在基底材料表面沉积有掺氮二氧化钛多孔膜的复合材料。本发明制备的掺氮二氧化钛多孔膜具有可见光催化活性和高比表面积的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 掺氮二 氧化 多孔 方法 | ||
【主权项】:
一种制备掺氮二氧化钛多孔膜的方法,其特征在于包括如下步骤:(1)将基底材料放入原子层沉积设备的反应腔,使用惰性气体氮气吹扫5-10 min,然后进行沉积;设定的MLD 沉积参数为:反应温度80-400 ºC;反应源:采用TiCl4或Ti(OCH(CH3)2)4为钛源,乙醇胺和丙二酰氯为有机前体,Ti(OCH(CH3)2)4源温为60 oC,乙醇胺源温为80 oC,TiCl4和丙二酰氯源温都为室温;载气:10-100 sccm的高纯氮气;脉冲、憋气和吹扫时间:首先将TiCl4或Ti(OCH(CH3)2)4蒸汽脉冲送入沉积室,脉冲时间为0.01-0.5 s,憋气时间为5-10 s,吹扫时间为10-120 s;然后将乙醇胺蒸汽脉冲送入沉积室,脉冲时间为0.1-1 s,憋气时间为5-10 s,吹扫时间为60-150 s;接着将丙二酰氯蒸汽脉冲送入沉积室,脉冲时间为0.1-1 s,憋气时间为5-10 s,吹扫时间为60-150 s;最后再次将乙醇胺蒸汽脉冲送入沉积室,脉冲时间为0.1-1 s,憋气时间为5-10 s,吹扫时间为60-150 s,此即完成一次沉积循环,重复此沉积循环即在基底材料表面得到不同厚度的含钛有机‑无机复合膜;(2)将步骤(1)得到的表面沉积了含钛有机‑无机复合膜的基底材料在空气,氧气或惰性气氛中在350-800 oC高温处理1-2 h,除去含钛有机‑无机复合膜中有机组分,得到在基底材料表面沉积有掺氮二氧化钛多孔膜的复合材料。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的