[发明专利]六边形纳米片阵列及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310121444.6 申请日: 2013-04-09
公开(公告)号: CN103224215A 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: 刘广强;段国韬;李越;其他发明人请求不公开姓名 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: B81B1/00 分类号: B81B1/00;B81C1/00;B82Y40/00
代理公司: 合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 34118 代理人: 任岗生
地址: 230031*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种六边形纳米片阵列及其制备方法。阵列为衬底上附有按六方有序排列的周期为200~2000nm的六边形纳米片阵列,其中,六边形纳米片的片厚为10~100nm、片单边长为100~1500nm,其由金属或金属氧化物构成;方法为先于衬底上涂敷聚甲基丙烯酸甲酯、将聚苯乙烯胶体球附于其上、使用氩等离子体刻蚀,得到其上依次覆有聚甲基丙烯酸甲酯和六边形单层胶体晶体模板的衬底,再于其上蒸镀铝膜、使用粘连的方法将六边形单层胶体晶体模板及其上的铝膜去除,之后,先对其使用氧等离子体刻蚀、蒸镀金属或金属氧化物,再将其置于二氯甲烷溶液中溶去聚甲基丙烯酸甲酯后,进行洗涤和氮气吹干的处理,制得目标产物。它可广泛用于光电器件、生物传感、纳米电极等领域。
搜索关键词: 六边形 纳米 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
一种六边形纳米片阵列,包括衬底,其特征在于:所述衬底上附有按六方有序排列的六边形纳米片阵列,所述六边形纳米片阵列的周期为200~2000nm;所述组成六边形纳米片阵列的六边形纳米片的片厚为10~100nm、片单边长为100~1500nm;所述六边形纳米片由金属或金属氧化物构成。
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