[发明专利]双折射薄膜反射式位相延迟片无效
| 申请号： | 201310116175.4 | 申请日： | 2013-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN103207427A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 齐红基;侯永强;朱美萍;易葵 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/08 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种双折射薄膜反射式位相延迟片，其特点在于是由基底、高低折射率材料周期性交替组成的高反射膜层以及各向异性位相延迟层一体构成，高反射膜的最外层为高折射率层，Ta2O5双折射薄膜层为反射位相延迟层。本发明位相延迟片在光波正入射条件下TE和TM两种偏振态光波偏振分离，且两种偏振态光波在工作波长范围内均具有很高的反射率及特定的反射位相差，同时，该位相延迟片反射位相差的通过调节Ta2O5双轴双折射薄膜层的厚度来实现，因而具有很高的设计灵活性。 | ||
| 搜索关键词： | 双折射 薄膜 反射 位相 延迟 | ||
【主权项】：
一种双折射薄膜反射式位相延迟片，其特征在于是由基底上依次镀制的高反射膜（4）和Ta2O5双轴双折射薄膜层（3）一体构成，所述的高反射膜（4）的结构为(HL)xH，其中H为高折射率层（1），L为低折射率膜层（2），x为高折射率层（1）和低折射率膜层（2）重复的次数，所述的高反射膜（4）的最外层为高折射率层（1），每一膜层的光学厚度为四分之一使用波长λ，所述的Ta2O5双轴双折射薄膜层（3）的光学厚度决定该双折射薄膜反射式位相延迟片的反射位相延迟量。
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