[发明专利]用于使表面平坦化的组合物及方法无效

专利信息
申请号: 201310099931.7 申请日: 2006-09-21
公开(公告)号: CN103214972A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 王育群;贾森.阿吉奥;陆斌;约翰.帕克;周仁杰 申请(专利权)人: 卡伯特微电子公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;H01L21/321
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 宋莉
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供用于平坦化或抛光表面的组合物及方法。一种组合物包含0.01重量%至20重量%的α-氧化铝颗粒,其中所述α-氧化铝颗粒具有200nm或更小的平均直径,且80%的所述α-氧化铝颗粒具有500nm或更小的直径;有机酸;腐蚀抑制剂;及水。另一组合物包含α-氧化铝颗粒;有机酸;三唑和苯并三唑的双重腐蚀抑制剂,其中三唑与苯并三唑的重量百分比之比为0.1至4.8;及水。
搜索关键词: 用于 表面 平坦 组合 方法
【主权项】:
一种用于抛光在表面上具有含铜膜的基板的化学‑机械抛光组合物,其包含:(a)0.01重量%至20重量%的α‑氧化铝颗粒,其中所述α‑氧化铝颗粒具有100nm或更小的平均直径,且90%的所述α‑氧化铝颗粒具有200nm或更小的直径;(b)有机酸,其中所述有机酸选自丙二酸、丁二酸、己二酸、乳酸、苹果酸、柠檬酸、甘氨酸、天冬氨酸、酒石酸、葡萄糖酸、亚氨基二乙酸及反丁烯二酸;(c)腐蚀抑制剂,其中该腐蚀抑制剂为三唑和苯并三唑的混合物,且具有三唑与苯并三唑的重量百分比之比为0.1至4.4;及(d)水,其中所述抛光组合物具有4‑14的pH。
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