[发明专利]一种快速沉积类金刚石薄膜的装置有效

专利信息
申请号: 201310074074.5 申请日: 2013-03-08
公开(公告)号: CN103114276A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 庞晓露;杨会生;高克玮;王燕斌 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/27
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 皋吉甫
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明为一种快速制备类金刚石薄膜的方法及装备。采用射频空心阴极效应,将等离子体束缚在一个特定的区域,负辉区合并,气体离化率成倍增加。同时,射频辉光放电过程中,电子被束缚在电极间,在放电空间来回运动,增加了与气体分子碰撞的次数,使电离能力显著提高从而提高等离子体的密度和能量,进而提高薄膜的沉积速率和膜质量,并显著提高生产效率,降低产品成本,易于实现工业化生产。
搜索关键词: 一种 快速 沉积 金刚石 薄膜 装置
【主权项】:
一种快速沉积类金刚石薄膜的装置,所述装置包括真空室、真空系统、电源系统、工件装卡及旋转系统、工作气体及反应气体的供给及流量控制系统; 其特征在于:所述装置还包括一射频空心阴极系统,所述系统为平板型,包括上阴极板及下阴极板,所述任一极板一侧设有气路接口,气体通过该极板供给,基片放在另一极板上;下阴极板安装在工件装卡及旋转系统的旋转支架上,气体由真空室通气口供给;上下阴极板通过三个长度可调螺杆连接,通过调整配套的螺母,调节两极板板间距,空心阴极系统通过下阴极板连接射频电源进行供电。
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