[发明专利]一种快速沉积类金刚石薄膜的装置有效
申请号: | 201310074074.5 | 申请日: | 2013-03-08 |
公开(公告)号: | CN103114276A | 公开(公告)日: | 2013-05-22 |
发明(设计)人: | 庞晓露;杨会生;高克玮;王燕斌 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/27 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明为一种快速制备类金刚石薄膜的方法及装备。采用射频空心阴极效应,将等离子体束缚在一个特定的区域,负辉区合并,气体离化率成倍增加。同时,射频辉光放电过程中,电子被束缚在电极间,在放电空间来回运动,增加了与气体分子碰撞的次数,使电离能力显著提高从而提高等离子体的密度和能量,进而提高薄膜的沉积速率和膜质量,并显著提高生产效率,降低产品成本,易于实现工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 快速 沉积 金刚石 薄膜 装置 | ||
【主权项】:
一种快速沉积类金刚石薄膜的装置,所述装置包括真空室、真空系统、电源系统、工件装卡及旋转系统、工作气体及反应气体的供给及流量控制系统; 其特征在于:所述装置还包括一射频空心阴极系统,所述系统为平板型,包括上阴极板及下阴极板,所述任一极板一侧设有气路接口,气体通过该极板供给,基片放在另一极板上;下阴极板安装在工件装卡及旋转系统的旋转支架上,气体由真空室通气口供给;上下阴极板通过三个长度可调螺杆连接,通过调整配套的螺母,调节两极板板间距,空心阴极系统通过下阴极板连接射频电源进行供电。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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