[发明专利]光敏合成石原料组合物及光敏合成石生产方法无效

专利信息
申请号: 201310045153.3 申请日: 2013-02-05
公开(公告)号: CN103131134A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 冯星起 申请(专利权)人: 焦作市天益科技有限公司
主分类号: C08L63/00 分类号: C08L63/00;C08K3/00;C08K3/22;C08K3/30;C08K3/36;C08K3/26
代理公司: 深圳市金笔知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 44297 代理人: 王国旭
地址: 454003 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开一种光敏合成石原料组合物及光敏合成石生产方法,通过在原料中加入一定比例的二氧化锡和三硫化二锑成功制造了既具有光敏作用又能防静电的合成石,提供一种成本低、性能稳定的生产工艺:(1)将原料纳米二氧化硅和纳米碳酸钙以1:1的重量比例混合制成纳米填料;(2)将原料环氧树脂、二氧化锡、三硫化二锑和步骤(1)中的纳米填料以10:1.25:1.25:1的重量比例倒入配制容器内混合均匀;(3)取配制容器内混合物,经玻璃纤维浸胶形成层压导磁板预浸布;(4)取步骤(3)中的层压导磁板预浸布,在270℃条件下压制形成成品光敏合成石,该生产工艺增强了产品的市场竞争力,便于产品的市场销售,值得推广。
搜索关键词: 光敏 合成 原料 组合 生产 方法
【主权项】:
一种光敏合成石的原料组合物,其特征在于,所述原料组合物包括环氧树脂、二氧化锡、三硫化二锑和纳米填料,所述环氧树脂、二氧化锡、三硫化二锑和纳米填料的重量比例为10:1.25:1.25:1,所述纳米填料为纳米二氧化硅和纳米碳酸钙以1:1的重量比例混合制成的纳米填料。
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