[发明专利]气体排放单元以及包括其的薄膜沉积装置

摘要

本发明提供一种气体排放单元以及包括其的薄膜沉积装置。该薄膜沉积装置包括：反应腔室；主盘，安装在反应腔室中；以及气体排放单元，设置在主盘外部。气体排放单元重新收集反应腔室中的气体，并包括：基底件，包括外侧壁、内侧壁以及连接外侧壁和内侧壁的下壁，并且是具有开口上部的环形件。至少一个通孔形成在下壁中。排放套管配置为插入到通孔中，其中在排放套管中形成气体出口。环形的上盖覆盖基底件的开口上部。在上盖中形成多个气体入口。

主权项

一种薄膜沉积装置，包括：反应腔室；主盘，安装在所述反应腔室中；以及气体排放单元，设置在所述主盘外部，配置为重新收集所述反应腔室中的气体，其中所述气体排放单元包括：基底件，包括外侧壁、内侧壁以及连接所述外侧壁和所述内侧壁的下壁，其中所述基底件包括具有开口上部的环形件，至少一个通孔设置在所述下壁中；排放套管，插入到所述至少一个通孔中，其中在所述排放套管中形成气体出口；以及上盖，包括覆盖所述基底件的所述开口上部的环形件，其中在所述上盖中形成多个气体入口。