[发明专利]用于制造光学薄膜的组合物及光学薄膜有效

专利信息
申请号: 201310022096.7 申请日: 2013-01-21
公开(公告)号: CN103214620B 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 小林忠弘 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: C08F222/20 分类号: C08F222/20;C08F222/24;C08F2/48;C08J7/04;C08J3/28;C08J3/24;C08F267/06;C09K19/52;G02B5/30;G02B1/10;G02F1/1335;H01L51/52;H01L51/54
代理公司: 上海市华诚律师事务所31210 代理人: 徐申民,汤国华
地址: 日本国东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题是提供在基材或偏光膜与光学薄膜之间显示优异的紧贴性的光学薄膜制造用组合物、以及由该组合物制造的光学薄膜。解決手段是提供含有以下的(A)、(B)及(C)的组合物以及由该组合物形成的光学薄膜。(A)聚合性液晶化合物(B)分子内具有碳‑碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物(C)光致聚合引发剂优选所述(B)为具有异氰酸基作为活性氢反应性基团的化合物。
搜索关键词: 用于 制造 光学薄膜 组合
【主权项】:
一种光学薄膜,其含有包含以下的(A)、(B)及(C)的组合物,且由该组合物中包含的聚合性液晶化合物聚合形成,相对于组合物的总质量,(B)的含量为0.1~0.6质量%,(A)聚合性液晶化合物(B)下述式(X)所表示的化合物,式(X)中,n表示1~10的整数,R1’表示碳原子数2~20的2价脂肪族或脂环式烃基或者碳原子数5~20的2价芳烃基,各重复单元中的2个R2’中的一个是‑NH‑,另一个是‑[N‑C(=O)‑R3’]‑所表示的基团,R3’表示具有羟基或碳‑碳不饱和键的基团,R3’之中,至少1个R3’是具有碳‑碳不饱和键的基团,(C)光致聚合引发剂。
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