[发明专利]一种室温熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法无效

专利信息
申请号: 201310017025.8 申请日: 2013-01-17
公开(公告)号: CN103074650A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 徐君莉;张霞;石忠宁 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: C25D3/66 分类号: C25D3/66
代理公司: 沈阳东大专利代理有限公司 21109 代理人: 梁焱
地址: 110819 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于一种功能材料涂层制备,特别涉及一种室温熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法,包括以下步骤:在卤化锂或双三氟磺酸亚胺锂(CF3SO2)2N­-Li的任意一种中添加双三氟磺酸亚胺丁基吡咯(CF3SO2)2N-BPy或氯化丁基吡咯BPy-Cl的任意一种,再添加K2TaF7或TaCl5提供钽源,组成电解质;阳极材料为石墨或金属钽,阴极为Ni-Ti合金,在电解质的初晶温度之上10~40℃进行电沉积,电流密度0.005~0.01A/cm2,电解3~5h,在阴极表面得到致密的钽涂层。本发明的电沉积温度低,操作方便,成本低廉,通过控制电流密度,可以得到成分均匀的钽涂层。
搜索关键词: 一种 室温 熔盐电 沉积 制备 ni ti 表面 镀层 方法
【主权项】:
一种室温熔盐电沉积制备Ni‑Ti表面钽镀层的方法,其特征在于包括以下步骤:(1)配制电解质:在卤化锂或双三氟磺酸亚胺锂(CF3SO2)2N­‑Li的任意一种中添加双三氟磺酸亚胺丁基吡咯(CF3SO2)2N‑BPy或氯化丁基吡咯BPy‑Cl的任意一种,再添加K2TaF7或TaCl5提供钽源,组成电解质体系;(2)电沉积制备钽涂层:阳极材料为石墨或金属钽,阴极为Ni‑Ti合金,在上述电解质的初晶温度之上10~40℃进行电沉积,电流密度0.005~0.01A/cm2,电解3~5h,在阴极表面得到致密的钽涂层。
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