[发明专利]等离子处理装置和等离子处理方法无效
| 申请号： | 201280068768.1 | 申请日： | 2012-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN104094677A | 公开（公告）日： | 2014-10-08 |
| 发明（设计）人： | 平山昌树 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东北大学 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C16/509;H01L21/205;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子处理装置，针对大尺寸的基板，能够改善用VHF频带那样的高频激励的等离子的密度的均匀性。等离子处理装置具有：波导路构件(401)，其用于形成波导路(WG)；同轴管，其从波导路(WG)的长度方向(A)上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；电场形成用的第一电极(460A)和第二电极(460B)，其以面对等离子形成空间(PS)的方式配置；以及线圈构件(410)，其配置在波导路内，以利用由磁场所发挥的电磁感应作用产生电压，并且与第一电极(460A)和第二电极(460B)电连接。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子处理装置，其特征在于，具有：波导路构件，其用于形成波导路；传送路，其从上述波导路的长度方向上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；电场形成用的至少一个电极，其以面对等离子形成空间的方式配置；以及至少一个线圈构件，其配置在上述波导路内，以利用由磁场所发挥的电磁感应作用产生电压，并且与上述至少一个电极电连接。
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