[发明专利]等离子处理装置和等离子处理方法

权利要求书

1.一种等离子处理装置，其特征在于，具有：

波导路构件，其用于形成波导路；

传送路，其从上述波导路的长度方向上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；

电场形成用的至少一个电极，其以面对等离子形成空间的方式配置；以及

至少一个线圈构件，其配置在上述波导路内，以利用由磁场所发挥的电磁感应作用产生电压，并且与上述至少一个电极电连接。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述至少一个线圈构件包含多个线圈构件，

上述多个线圈构件沿着上述长度方向排列。

3.根据权利要求1或2所述的等离子处理装置，其特征在于，

该等离子处理装置还具有电介质，其沿着上述长度方向延伸，并贯穿上述至少一个线圈构件内。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述至少一个线圈构件隔着电介质配置于上述波导路构件上。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述至少一个电极包含第一电极和第二电极，

上述至少一个线圈分别与上述第一电极和第二电极电连接。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述波导路构件具有：第一波导路构件，其以形成具有并联的第一隆起部和第二隆起部的波导路的方式形成；以及

第二波导路构件，其与上述第一波导路构件配合来形成上述波导路，

上述至少一个线圈构件包含配置在上述波导路的第一隆起部内的第一线圈构件和配置在上述波导路的第二隆起部内的第二线圈构件。

7.根据权利要求6所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述传送路包含同轴管，

上述同轴管在上述波导路的第一隆起部和第二隆起部之间沿着上述第一隆起部和第二隆起部的高度方向延伸并连接于上述第一波导路构件和第二波导路构件。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述至少一个线圈构件以两端部面对的方式形成为筒状。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述规定的馈电位置位于上述波导路的上述长度方向上的大致中央位置。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

以从上述传送路供给的规定的等离子激励频率的高频共振的方式构成上述波导路。

11.一种等离子处理方法，其特征在于，具有：

将被处理体设置于在内部设有等离子发生机构的容器内的与上述等离子形成空间面对的位置处的步骤；以及

利用上述等离子发生机构激励等离子以对上述被处理体进行等离子处理的步骤，

该等离子发生机构具有：波导路构件，其用于形成波导路；传送路，其从上述波导路的长度方向上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；电场形成用的至少一个电极，其以面对等离子形成空间的方式配置；以及至少一个线圈构件，其配置在上述波导路内，以利用由磁场所发挥的电磁感应作用产生电压，并且与上述至少一个电极电连接。