[发明专利]玻璃板有效
| 申请号： | 201280041422.2 | 申请日： | 2012-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN103764586A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | 鹿岛出;小林裕介 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03C19/00 | 分类号： | C03C19/00;B24B9/00;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 高培培;车文 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种玻璃板，具有主平面（11）、相对于主平面（11）垂直的端面（13）、以及形成于主平面（11）和端面（13）之间并与主平面（11）和端面（13）相邻的倒角面（15），在相对于主平面（11）和端面（13）垂直的剖面中，倒角面(15)在与相对于主平面(11)的倾角为45°的直线L20相切的切点S20处的曲率半径r2为50μm以上，且倒角面（15）在与相对于主平面（11）的倾角为15°的直线L10相切的切点S10处的曲率半径r1为20～500μm。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃板 | ||
【主权项】：
一种玻璃板，其具有主平面、相对于该主平面垂直的端面、及形成于所述主平面和所述端面之间并与所述主平面和所述端面相邻的倒角面，其中，在相对于所述主平面和所述端面垂直的剖面中，所述倒角面在与相对于所述主平面的倾角为45°的直线相切的切点处的曲率半径为50μm以上，且所述倒角面在与相对于所述主平面的倾角为15°的直线相切的切点处的曲率半径为20～500μm。
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- 德永博文;辻村知之;西泽学;小池章夫;城山厚;横山哲史;金子聪 - 旭硝子株式会社
- 2013-05-30 - 2015-02-18 - C03C19/00
- 本发明涉及一种玻璃基板的精研磨方法，使用含有二氧化铈作为研磨磨粒的研磨浆料对玻璃基板的主面进行研磨，其中，所述玻璃基板的组成为下述的无碱玻璃，所述精研磨方法包括在下述条件下进行研磨的阶段：在将所述玻璃基板的主面的起伏换算为20mm间距的起伏而得到起伏的高度从0.14μm变化至0.10μm时的所述玻璃基板的研磨量设为X(μm)时，使0.04/X为0.12以上，所述无碱玻璃的应变点为710℃以上，50～350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7～43×10-7/℃，玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2为1710℃以下，玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4为1320℃以下，以基于氧化物的摩尔％计，含有SiO2：66～70、Al2O3：12～15、B2O3：0～1.5、MgO：大于9.5且为13以下、CaO：4～9、SrO：0.5～4.5、BaO：0～1、ZrO2：0～2，MgO+CaO+SrO+BaO为17～21，MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.40以上，MgO/(MgO+CaO)为0.40以上，MgO/(MgO+SrO)为0.60以上。
- 可调谐表面增强拉曼散射基底的制备方法-201410467546.8
- 丁亮亮;洪瑞金;杨赛;张大伟;陶春先 - 上海理工大学
- 2014-09-15 - 2014-12-24 - C03C19/00
- 本发明涉及一种可调谐表面增强拉曼散射基底的制备方法，对K9玻璃基片进行清洗，去除基片表面的油污杂质；将K9玻璃基底放入离子束刻蚀系统，设定离子束轰击角度、刻蚀电流、加速电压、刻蚀时间，对基片进行离子束刻蚀，形成表面具有一定粗糙度的基底；将刻蚀后的基底清洗干净后置于真空沉积系统中进行烘干；把烘干刻蚀后的基底放入直流溅射沉积系统中，设定沉积工作功率和薄膜沉积时间，将货币金属均匀的沉积在被刻蚀的基底表面，形成表面增强层基底，将沉积好的薄膜基底取出。本发明不需直接糙化表面增强层，能够有效避免对表面增强层的污染；制作简单、生产周期短、成本低，适用批量化生产；本发明无毒无害，不会对操作人员造成伤害。
- 专利分类
