[发明专利]流体控制阀组件

摘要

阀组件（34）包括限定出第一通路（44）、第二通路（46）、第三通路（48）和第四通路（50）的壳体。第一通路（44）将较高压力的流体引导到阀中并且第二通路（46）将较低压力的流体流引导到阀中。第三通路（48）连接到第二通路（46）并从阀释放流体。第四通路（50）连接到第一通路（44）和第二通路（46）并从阀释放流体。阀组件还包括允许从第二通路（46）到第三通路（48）的流体流的第一止回阀（52）和允许从第二通路（46）到第四通路（50）的流体流的第二止回阀（54）。该阀组件还包括喷嘴（60），该喷嘴控制较高压力的流体从第一通路（44）进入第四通路（50）的速率。较低压力的流体通过较高压力的流体在喷嘴（60）的外周（62）从第二通道（46）被引入第四通路（50）中。

主权项

一种阀组件，包括：壳体；第一通路，所述第一通路由所述壳体限定并且构造成将较高压力的流体引导到所述阀组件中；第二通路，所述第二通路由所述壳体限定并且构造成将较低压力的流体引导到所述阀组件中；第三通路，所述第三通路由所述壳体限定，与所述第二通路流体连通，并且构造成从所述阀组件释放流体；第四通路，所述第四通路由所述壳体限定，与所述第一通路和所述第二通路流体连通，并且构造成从所述阀组件释放流体；第一止回阀，所述第一止回阀构造成允许从所述第二通路到所述第三通路的流体流；第二止回阀，所述第二止回阀构造成允许从所述第二通路到所述第四通路的流体流；和喷嘴，所述喷嘴配置在所述第一通路与所述第四通路之间并且构造成控制所述较高压力的流体进入所述第四通路的速率；其中，所述较低压力的流体通过所述较高压力的流体在喷嘴的外周从所述第二通路被引入所述第四通路中。