[发明专利]成型材料、涂料组合物及成型材料的制造方法有效
| 申请号： | 201280031605.6 | 申请日： | 2012-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN103620447A | 公开（公告）日： | 2014-03-05 |
| 发明（设计）人： | 石田康之;岩谷忠彦;三村尚;高田育 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;B32B27/20;B32B27/30;C09D5/16;C09D7/12;C09D201/00;C09K3/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的是提供一种在维持光泽感、或透明性的同时指纹难以看见的成型材料，能够形成表现上述效果的层的涂料组合物，以及上述层的制造方法。一种成型材料，是在至少一面具有层的成型材料，上述层包含含有氟的化合物，JIS Z8741(1997年版)中规定的60度镜面光泽度为60%以上，所述层具有下述表面特性：通过原子力显微镜(AFM)观察到的超过均方根粗糙度(Rq)的峰数为每25μm2500个以上1500个以下。 | ||
| 搜索关键词： | 成型 材料 涂料 组合 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种成型材料，是在支持基材的至少一面具有层的成型材料，所述层包含含有氟的化合物，1997年版JIS Z8741中规定的60度镜面光泽度为60%以上，所述层具有下述表面特性：通过原子力显微镜AFM观察到的超过均方根粗糙度Rq的峰数为每25μm2500个以上1500个以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽株式会社，未经东丽株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280031605.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：细微结构形成用模和光学元件的制造方法
- 下一篇：分析数据处理方法以及装置
