[发明专利]改性共轭二烯系聚合物的制造方法有效

专利信息
申请号: 201280023921.9 申请日: 2012-08-29
公开(公告)号: CN103534280A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 森田浩之;汤浅毅;谷耕一郎;野坂直矢;田中了司 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: C08F36/04 分类号: C08F36/04;B60C1/00;C08F4/44;C08F8/42;C08K3/04;C08K3/36;C08L15/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 左嘉勋;顾晋伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供可作为用于汽车轮胎等用途的、能够提高汽车等的低油耗性能的交联聚合物的原料而使用的改性共轭二烯系聚合物的制造方法。一种改性共轭二烯系聚合物的制造方法,包括聚合工序,即,在选自下述式(1)和(2)中的至少1种化合物与碱金属化合物或碱土类金属化合物的存在下,将含有共轭二烯系化合物的单体、或者含有共轭二烯系化合物和芳香族乙烯基化合物的单体聚合,得到改性共轭二烯系聚合物。式中,A1为“-SiH3”结构中的3个H(氢原子)各自被烃基取代而成的烃基甲硅烷基,R1和R2为亚烃基。
搜索关键词: 改性 共轭 二烯系 聚合物 制造 方法
【主权项】:
1.一种改性共轭二烯系聚合物的制造方法,包括聚合工序:在选自下述通式(1)和(2)中的至少1种化合物与碱金属化合物或碱土类金属化合物的存在下,将含有共轭二烯系化合物的单体、或者含有共轭二烯系化合物和芳香族乙烯基化合物的单体聚合,得到改性共轭二烯系聚合物,通式(1)和(2)中,A1为“-SiH3”结构中的3个H即氢原子各自被烃基取代而成的烃基甲硅烷基,R1和R2为亚烃基,式中,存在多个的A1、R1和R2各自相同或不同。
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